Mentor旗下的Calibre nmPlatform和Analog FastSPICE(AFS)自訂和類比/混合訊號(AMS)電路驗證平台已通過三星Foundry的最新製程技術認證。客戶現在可以在三星的5/4奈米FinFET製程上使用這些產品，為其先進的IC設計Tapeouts進行驗證和Sign-off。
三星5奈米FinFET製程具備優異的功率、效能和面積(PPA)特性，其自身的增強功能，結合更精細的5奈米幾何尺寸，能夠提供比前幾代製程節點更加突出的效能表現。而除Calibre nmDRC之外，通過三星Foundry新製程認證的Mentor工具還包括：
Calibre xACT可解決與先進奈米設計相關的技術挑戰，包括多重曝光、局部互連、高複雜度和嚴苛的約束條件等。其獨特的混合引擎可為FinFET這類細微的3D結構提供至關重要的場解算器準確度，並具備快速處理能力。
Calibre YieldEnhancer具有SmartFill和ECO Fill功能，客戶可控制設計平面度並縮短反覆設計的周轉時間，且可透過自動化PowerVia流程減少IR壓降，協助客戶提高設計可靠度。
Calibre PERC能夠對實體布局和網表進行獨特的整合分析，自動執行複雜的可靠度驗證檢查，協助客戶克服靜電放電和閂鎖(Latch-up)可靠度的相關挑戰。
Calibre nmLVS可作為三星Foundry萃取流程的前端。因應不斷增加的布局複雜度要求，以及設計團隊對先進運算的更高需求，使在驗證複雜電路的同時，仍能在預期的執行時間内達成先進製程節點的設計目標。
Calibre RealTime數位和自訂介面平台利用同樣通過三星Foundry認證予批量Calibre的設計套件，在數位和自訂設計流程中即時地實現sign-off質量的DRC檢查。在先進和成熟節點設計的DRC收斂期間，這些介面可提供顯著的生產力優勢，使客戶能快速優化其手動的DRC修正，以節省更多時間來實現PPA目標。
Mentor的AFS平台被三星Foundry的器件模型和設計套件所支援，雙方的共同客戶能够以此在驗證類比、RF、混合訊號、記憶體和自訂數位電路時，實現比傳統SPICE模擬器速度更快的奈米級SPICE準確度。
