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賀利氏發布5G裝置解決方案

為了在5G市場中搶占先機,各廠商正加速提升下一代產品效能。賀利氏最新推出的5G應用材料方案,不僅能大幅降低成本,更能提升5G產品的表現與品質。賀利氏展出多項材料解決方案,包含防電磁干擾(EMI)全套解決方案、AgCoat Prime鍍金銀線及mAgic燒結銀,與客戶共同迎向5G發展面臨的四大挑戰,分別為電磁干擾、輕薄短小、成本壓力與高溫。 唯有提高IC的工作頻率才能實現5G技術更高效能,但這會造成裝置內部如晶片、天線等零組件之間的破壞性干擾;另外,產生高電磁效應的特殊IC(electromagnetically active devices)不應影響模組內部環境中其他系統的安全性,特別是零組件間防止電磁干擾屏蔽已經達到了技術極限。 賀利氏最新開發的全套解決方案,包含特製的銀油墨、3D數位列印設備和專用於特製的銀油墨的固化設備。與傳統的金屬背蓋或現有的濺鍍設備相比,這項新技術能大幅節省成本並提高材料使用率。若依年度產能估計,此解決方案的設備投資僅約新型物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition, PVD)濺鍍製程設備投資15分之1。 賀利氏電子業務領域總裁Frank Stietz表示,基於高頻寬及輕薄短小的需求,防止電磁干擾技術已成為5G發展的關鍵。對許多消費型電子產品和物聯網產品而言,讓消費者安全可靠地使用產品最為重要。」 電子產品的輕薄短小,導致內部零組件空間錙銖必較;而 5G技術帶來急速增長的數據流量,也將大量耗電,導致電池容量與體積越來越大,讓模組與個別IC的體積問題再度被放大。 各種元件的微小化同時帶來元件間距的微小化,市場對細間距焊錫膏的需求也隨之增加。賀利氏Welco焊錫膏優異的流變特性,提供卓越的高密度微小焊墊的印刷性能,讓5G手機等消費性電子裝置得以輕薄短小。此外,與傳統金屬背殼技術相比,賀利氏的防止電磁干擾解決方案能更有效地節省空間。 隨著電子產品的演進與發展,需要更多的儲存容量,廠商對於提高成本效益的需求也逐漸提升,甚至成為獲得競爭優勢的關鍵。 為確保高效能,現今半導體產業的記憶體大多仰賴金線作為主要焊線材料,而賀利氏推出的AgCoat Prime鍍金銀線,可成為5G產品記憶體封裝的金線替代品。 為加快5G部署並支援更高頻寬,全球各地的通訊營運商和政府都必須擴大對通訊基礎建設的投資。考量5G的高速傳輸能力和高功耗,裝置和功率放大器的溫度均會大幅提升。 傳統錫膏焊接材料與技術已達上述需求的極限,燒結銀材料被視為理想的替代方案,而賀利氏提供的mAgic燒結銀可將裝置的使用壽命延長至10倍。  
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為5G而生 賀利氏推出EMI遮蔽解決方案

5G已成為時下最熱門的關鍵字,除此之外,相關技術與布建也馬不停蹄地持續發展中。然而新技術的發展便意味著新挑戰的產生,5G行動網路帶來了高速與大頻寬、低延遲與高可靠性的同時,也帶來了電磁干擾(EMI)、裝置尺寸與升溫問題等挑戰。為因應上述挑戰,賀利氏(Heraeus)推出防電磁干擾全套解決方案,迎接5G發展面臨各種挑戰。 賀利氏電子業務領域總裁Frank Stietz指出,基於高頻寬及輕薄短小的需求,防止電磁干擾技術已成為5G發展的關鍵。賀利氏的全套解決方案,包含特製的銀油墨、3D數位列印設備和專用於特製的銀油墨的固化設備。與傳統的金屬背蓋或現有的濺鍍設備相比,賀利氏使用列印技術,除了可以達到每一面厚度相同且均勻之外,並能設定區域局部進行列印,不會有任何材料被浪費。同時此技術使用的設備僅需2.5m×1.5m的占地,大幅節省工廠空間。這項新技術能節省物料成本提高材料使用率,若依年度產能估計,此解決方案的設備投資僅約PVD濺鍍製程設備投資的15分之1,然而產能卻可以提升5倍。 Stietz進一步說明,過去將金屬背蓋直接做在PCB板上的做法已經不可能用於5G產品,因為那體積和重量都會超出可以接受的範圍。而PVD濺鍍又過於浪費材料,物料使用效率低,且需要無塵室相關設備,投資成本高昂。另外,噴墨(Ink Spray)技術同樣面臨物料使用率不足的問題,而且在側面達到與上層相同均勻與厚度將是一大挑戰。若使用列印技術則不會面臨上述問題,可以達到-60dB的遮蔽效果,每面的厚薄與均勻一致,且能實現零物料浪費的目標。 Stietz表示,賀利氏的防電磁干擾全套解決方案目前已與客戶合作,在亞洲地區小量生產(Ramp-up),並計畫於2019 Q4設製原型(Prototype)產線。最重要的,上市時程是與5G發展同步的。5G預定商轉時成為2020年,賀利氏的防電磁干擾解決方案為5G而存在,因此也計畫和5G一同登場。 電子產品的輕薄短小,導致內部零組件空間錙銖必較;而 5G技術帶來急速增長的數據流量,也將大量耗電,導致電池容量與體積越來越大,讓模組與個別IC的體積問題再度被放大。賀利氏的印刷技術讓EMI遮蔽以更小的尺寸達到更好的效果。  
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專訪高通執行長Steve Mollenkopf 2020年消費者難拒絕5G手機

Mollenkopf指出,5G的快速發展,一部分跟消費者希望有更快的傳輸速度有關,另一部分則是電信營運業者的大力推動,5G有兩大優勢特別受到電信業者的青睞。 首先,相較於4G,5G傳輸更有效率。Mollenkopf說明,5G使電信業者能夠因應持續上升的無線影音傳輸需求,滿足消費者對行動影音服務的龐大胃口;不僅如此,5G網路傳輸影片成本大約是現今技術的30分之1,且5G標準可以與新的無線電頻寬相容,提供更多創新服務,有時還能與有線寬頻競爭。 其次,5G將能串聯所有事物,讓各行各業實現數位化,像是以安全的方式遠端操控裝置,這是行動技術首次符合產業需求,不僅適用於消費者,各產業如醫療保健、教育、智慧城市等領域都能導入5G技術。 Mollenkopf指出,消費者和產業對於數據的需求正在急劇上升,若電信業者沒有良好的5G部署策略,將會在這波5G浪潮中處於落後的位置,且永遠無法追趕上領先者。而高通在這波5G浪潮中,扮演的不單單是單純的晶片製造/供應商,而是研發基礎技術的企業,不僅和各行業分享各種標準,也會提供支援的晶片,藉此發展能讓產業大規模應用的無線技術。 簡而言之,Mollenkopf認為,5G使電信業者能滿足大量數據傳輸需求,有了5G之後,消費者可以擁有更好的行動裝置體驗,不論是軟體更新、行動串流媒體、隨時更新個人社群等。到了2020年,5G將更加無處不在,不購買5G手機對消費者而言將是件困難的事情。 行動通訊晶片供應商高通執行長Steve Mollenkopf表示,5G讓消費者享有更快速的傳輸體驗,2020年消費者很難不買5G手機。  
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MIC:2019年全球半導體產值衰退8.7% 2020年後緩步回升

全球半導體產業,歷經2017與2018年,由記憶體市場需求井噴帶動的連續兩年兩位數成長的榮景宣告結束,2019年產業全面修正,根據半導體貿易統計群組織(WSTS)與資策會MIC的預測,2019年全球半導體產業產值為4279億美元,較2018年衰退8.7%,2020年將成長至4373億美元,成長2.2%,呈現緩步回升的態勢。 2017年線上高畫質影音帶動資料中心(Data Center)的大幅成長,記憶體需求包括DRAM與NAND Flash跟著水漲船高,缺貨情況湧現也推升記憶體價格,全球主要記憶體廠業績倍數成長;其後又有許多充滿話題的新興科技如人工智慧(AI)、區塊鏈、自駕車、虛擬貨幣、5G等,持續帶動產業需求,造就半導體產業連續兩年兩位數成長的榮景,2017年產業成長率達21.6%,2018年在高基期環境下再度成長13.7%。 不過,熱絡的情況2019年急速降溫,上半年記憶體需求不再激情,DRAM與NAND Flash價格大幅滑落,再加上美中貿易戰影響,終端庫存過高,也拖累全年半導體產業的整體表現。資策會MIC預估,經濟成長趨緩等因素將延續到2020年,終端消費者的消費意願因經濟情勢不確定而下滑,使得廠商下單趨於保守,訂單能見度低,將影響2020年半導體產業整體表現,展望未來,產業將呈現緩步復甦,2020年成長2.2%,2021年以後產業規模預期可以恢復到2018年的水準。  
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NI/蔚華結盟創造雙贏 半導體測試業務大有斬獲

美商國家儀器(NI)與蔚華在五月中宣布結盟後,短短三個多月內,雙方的合作已經有初步成果展現。深耕半導體設備市場三十餘年的蔚華,與NI在半導體測試機台領域進行深度合作,共同推出了針對市場需求所打造的標準化、可擴充的半導體測試解決方案,並在半導體景氣疲軟的2019年上半,協助NI在大中華區繳出了半導體市場營收翻倍的好成績。 NI台灣區總經理林沛彥表示,該公司的測試儀器在晶片設計/研發端,一直有相當不錯的市占率,但進軍晶片量產測試市場,則是在最近5~6年才開始。目前已經有許多整合元件製造商(IDM)採用NI的半導體測試設備進行量產測試,在IC設計公司方面,許多與無線通訊有關的IC設計大廠,也是NI半導體測試設備的客戶。 NI與蔚華宣布結盟數月後,在大中華區半導體測試設備領域繳出不俗的營運成績。圖左為NI台灣區總經理林沛彥,右為蔚華科技總經理高瀚宇。 接下來,NI的半導體測試業務要進一步擴張,必須要開始耕耘專業委外封測廠(OSAT)這個客戶族群。而當業務發展到這個階段,尋找專業夥伴是非常關鍵的,因為OSAT跟IDM或IC設計公司不同,IDM或IC設計公司只要測試自己的產品,但OSAT應對的是來自各家晶片廠的測試訂單,測試需求十分多元化。而且,因為OSAT廠的測試線運作是不中斷的,需要極大的工程團隊支援能量,這是目前NI的組織架構無法滿足的。 深耕半導體設備市場至今已有32年歷史的蔚華,擁有非常強大的工程支援團隊,並在OSAT業內廣獲客戶信賴。另一方面,蔚華對OSAT客戶群的需求也有很深的理解,因此在五月雙方宣布結盟後,蔚華協助NI重新檢視了既有的半導體測試設備產品線,並共同打造出標準化、可擴充的半導體測試解決方案。此方案確實打中OSAT客戶的需求,也讓NI跟蔚華在OSAT市場取得好的開始。 蔚華總經理高瀚宇則認為,該公司與NI的合作,確實有助於在OSAT市場創造雙贏局面。OSAT業者不只要測試機台,還需要探針、探針卡與大量的應用工程師支援,而這些都是蔚華能提供的價值。 蔚華與NI結盟後,將NI的測試機台搭配蔚華的分類機、探針、探針卡等經銷產品,組成完整的測試系統,可為台灣及大中華區半導體產業提供更多元且具競爭力的解決方案。尤其,NI在射頻相關測試領域具領導地位,雙方合作將以此為起點,逐步擴大至其他類比或混合訊號IC測試範疇。 專注在類比、射頻跟混和訊號測試,是NI進入半導體測試領域以來一直採取的產品發展策略。與目前市場上已經存在的數位晶片測試機台相比,NI提供的測試儀並沒有明顯的差異化,但如果晶片廠或OSAT業者想用數位晶片測試機台來進行類比或射頻測試,額外衍生的成本將非常高昂。這正是NI決定專注在類比/混訊跟射頻的原因,在這類測試領域,NI的測試方案有非常明顯的性價比優勢。 也因為NI的測試機台鎖定類比跟射頻測試,不做處理器跟記憶體晶片測試,因此在記憶體價格大跌,拖累整個半導體產業成長之際,NI的半導體測試業務並未受到影響。相反的,隨著5G、物聯網等應用興起,市場對射頻、混合訊號測試的需求明顯增加,為NI相關業務的成長創造出更大空間。而NI與半導體設備老牌代理商蔚華的合作,料將讓NI在半導體測試設備市場上,取得更多火力支援。
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專訪台灣愛立信總經理藍尚立 成熟生態系統成5G專網實現關鍵

根據愛立信新發布的行動趨勢報告指出,目前推動專用網路市場成長有兩大因素,分別為陸地行動無線電(LMR)的現代化及工業數位化需求。傳統的LMR系統缺乏頻寬功能,只提供有限的性價比,且主要已部署的系統生命也將至末期。因此,LMR系統的現代化勢在必行,特別是在公共安全、公共事業、公共場所,以及自然資源(石油、天然氣、礦產)等市場。至於工業數位化,則是為了提高生產力和營運效率的新應用而推動。 台灣愛立信總經理藍尚立(Chafic Nassif)說明,目前已有許多5G專網的概念性驗證(Proof of Concept, POC)和商業驗證(Proof-of-Business, POB)案例正在進行,至於何時會實現大規模5G專網,時程很難預估。原因在於,5G專網建置需要一個成熟的生態系統,並非只倚靠網通設備就能打造,像是工廠裡面的感測器、閘道器(Gateway)或是其他設備等,其聯網能力和效能是否都已達到業者的預期,且又符合經濟成本。當這些要素都齊全且達到業主預期後,再結合網通、電信業者的技術和服務,5G專網才得以完善。 藍尚立指出,也就是說,目前5G專網技術雖已就緒,但布建的重點在於業者自身的生態系統是否成熟,而不同的領域有不同需求,使得每個企業的的生態系統成熟度也不一樣,因此,5G專網的建置須透過許多POC、POB加以驗證、修正,導致大規模商用時程變得較難估計。 當然,除了成熟度之外,5G專網的建置仍有其餘挑戰待克服。像是專用網路如何在使用行動通訊技術時,運用合適的頻譜,要透過服務供應商,經用監管機構直接分配企業,還是使用者直接使用當地分配的共享授權頻譜,這都是仍待討論的議題。 台灣愛立信總經理藍尚立說明,成熟的5G專網時程很難預估,主要仰賴業者是否已有成熟的生態系統。  
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毫米波布建實測 跑得快但難轉彎

在韓國搶先商轉5G服務後,美國隨即發布商轉消息,在熱鬧的5G開台大戰又過了5個月後的現在,大家仍積極布建5G相關建設、尋找應用場景。而搶先開台的兩國中,美國布建5G毫米波(mmWave)的發展情況也深受大家關注。 Nokia客戶營運部技術總監陳銘邦表示,5G毫米波可以提供非常高的速度跟傳輸量,但是要以毫米波提高5G涵蓋是非常辛苦的。由於毫米波對可直視性(Line Of Sight, LOS)的要求非常高,目前在美國實測的結果看來,沒有遮蔽的情況下毫米波的表現非常優異,但是受到遮蔽的情況下表現就會明顯受到影響。 陳銘邦進一步說明,在5G建網的過程中,頻譜是一個很重要的因素,沒有頻譜就沒有網路。5G頻譜可以分為低頻、中頻和高頻(毫米波),以現在台灣的700MHz、900MHz、1800MHz、2100MHz等頻段的網路就是使用低頻,低頻主要是用頻分雙工(FDD)的技術,在3GPP的規範裡面低頻也可以做5G的服務,也就是說以台灣現有的頻譜就可以馬上轉到5G應用。 目前各國使用5G主要都是集中在3.5GHz的頻段,也就是集中於中頻。而高頻(多為28GHz)的應用則不太一樣,需要超高速傳輸的應用就很適合使用高頻。通常低頻在5G涵蓋方面是更有優勢的。舉例來說,台灣NCC要求5年內要達到50%的人口涵蓋,光用3.5 GHz的頻段就會很辛苦,用低頻達到人口涵蓋是相對容易的做法。 針對毫米波在美國的實測情況,陳銘邦指出,目前在美國部署的毫米波基地台實測狀況,在沒有遮蔽的情況下,手機可以收到1Gbps,但是只要轉個彎就沒有辦法收到這麼高的傳輸量。因為毫米波對Line Of Sigh的要求很高,轉彎後經過10~50公尺的距離,訊號就會喪失14~21 dB。另外,不同遮蔽物的影響程度也不同,若是被水泥或磚塊遮擋,會有30~35 dB的訊號喪失,石膏板則是7~12 dB,最少的是透明玻璃,僅5 dB的訊號衰減。
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全球科技大廠領袖齊聚SEMICON Taiwan

高科技產業盛事SEMICON Taiwan國際半導體展,將於9月18~20日於台北南港展覽館一館隆重舉行。隨著5G、人工智慧與物聯網應用蓬勃發展,半導體先進技術需求大幅增加,驅動更多業者進軍半導體應用市場,SEMICON Taiwan今年規劃21大主題與國家專區和超過20場國際論壇,將聚集700家國內外領導廠商,展出超過2,200個攤位,預期吸引近50,000位專業人士參觀,將為展會規模創下新高紀錄。 SEMI 國際半導體產業協會最新的市場預測報告顯示,儘管2019年全球半導體市場支出相對保守,但台灣半導體製造設備投資卻在先進製程及產能的帶動下異軍突起,將以21.1%的成長率超越韓國、躍居全球第一。而台灣因為擁有大規模晶圓代工和封裝基地,已連續9年成為全球最大半導體材料消費地區,總金額達114億美元,表現相當亮眼。 2019年SEMICON Taiwan聚焦先進製程、異質整合與永續製造,同時呈現智慧製造、智慧汽車、智慧醫療、智慧數據等新興智慧應用趨勢。SEMI全球行銷長暨台灣區總裁曹世綸表示,秉持「引領科技潮流、推動技術演進、促進合作交流」的理念,SEMI服務平台已從半導體產業鏈上游全面延伸至智慧終端應用,邁入第24屆的SEMICON Taiwan不僅在規模上持續擴大,同時成功串連國內完整微電子產業生態圈,讓台灣不只接軌全球技術趨勢,更成為驅動高科技產業未來發展動向的引擎。 2019年SEMICON Taiwan期間共舉辦21場國際市場趨勢與技術論壇,講師陣容堅強。今年特別規劃「科技創新論壇」,邀請到來自台積電以及比利時微電子(imec)、新加坡國立研究基金會(NRF Singapore)、電子暨資訊技術實驗室(CEA-Leti)、Fraunhofer、工業技術研究院等國際一流研究與研發機構的講師分享全球微電子技術的趨勢與前景;同時與經濟部合作「科技智庫領袖高峰會」,邀請到來自廣達電腦、鴻海科技、台積電、日月光、鈺創科技、力積電與旺宏電子等高科技產業意見領袖,共同分享未來創新與技術發展藍圖,並探討台灣如何延續過去半導體產業的成功基礎,創造下個60年高科技產業榮景。 此外,同期舉辦的「SiP系統級封測國際高峰論壇」、「SMC策略材料高峰論壇」,以及今年首度粉墨登場的「先進測試論壇」,呈現後摩爾定律時代異質整合技術的機會與挑戰,匯集來自高通(Qualcomm)、日月光、經濟部技術處,以及專注發展異質整合技術藍圖的HIR等的技術專家。另有智慧汽車、智慧數據兩高峰論壇,邀請到奧迪(Audi)、蔚來汽車(NIO)、Facebook,以及驅動數位產品核心研發技術的龍頭安謀控股(ARM)和明導國際(Mentor)等的企業高階代表擔任講師,奧迪的首款量產純電動車Audi e-tron也將於展場亮相。此外,尚有高科技智慧製造、智慧醫療,和眾多產業先進技術論壇,剖析半導體應用的市場趨勢,讓參觀者可同步洞察產業關鍵技術與市場脈動。 2019年展覽針對半導體先進材料與製程、產業趨勢與智慧應用規劃一系列多元主題專區,另新增「化合物半導體創新應用館」、「異質整合創新技術館」兩大全新主題展區,前者邀請到漢磊、嘉晶、穩懋、GaN Systems、IQE等廠商就「3D Sensing」、「LiDAR&Radar」、「Powertrain」三大主題展示相關技術趨勢,並透過現場展示BMWi3純電動車呈現化合物半導體產業鏈及由其驅動的終端應用;後者則展示異質整合終端應用與重點技術,邀請到應用端5G電信業者、IC設計、封裝、矽光子技術等相關廠商於技術創新館中展示,呈現產業第一手資訊。 2019年SEMICON Taiwan也延續去年引起熱烈迴響的「人才培育特展」,今年SEMI再攜手台積電、日月光等「SEMI 產業暨人才發展委員會」委員共同精心規畫主題講座、職涯諮詢以及人才媒合資訊情報等3大系列主題,打造產業人才互動交流的專業平台。今年共同響應的廠商除了持續支持人才培育特展的104獵才顧問、東京威力科創(TEL)以外,經濟部工業局、英特爾(Intel)、美光(Micron)、微軟(Microsoft)、蔚華科技、均豪精密工業以及台灣應材(Applied Materials)今年也加入SEMI人才培育特展的行列。 經SEMI多年耕耘,台灣逐步建構出智慧製造的完整產業鏈與技術社群,今年「高科技智慧製造展」與SEMICON Taiwan同期同地展出,以「啟動高科技製造數位轉型」為展覽核心,聚焦人工智慧加值的製造與資安策略,聚集橫跨半導體、面板、PCB產業的智慧製造解決方案的設備業者及製造商,加速微電子產業實踐智慧、整合、創新的數位轉型解決方案。其中「SMART Manufacturing Journey」未來展區,將規劃數位戰情室、智慧眼鏡、Digital Twin數位模擬等互動展區,帶領參觀者進入通往數位轉型的旅程。  
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是德加入5G-ACIA聯盟協助部署5G工業應用

是德科技(Keysight)日前宣布加入5G工業聯網自動化聯盟(5G-ACIA),以協助建立測試和驗證架構,讓業界能加速部署全新的5G工業使用案例。 5G工業應用將在工廠中全面落實自動化流程與獨立運作,以大幅提升工業製造效率。是德科技具有5G專業知識,並提供完整的網路基礎設施、裝置和應用測試解決方案,以支援5G-ACIA聯盟加速開發資訊與通訊科技(ICT)產業需要的互連技術,進而實現5G工業物聯網的願景。 5G-ACIA共有50多個會員,致力於建立新的ICT和營運科技(OT)生態系統,並協調進行3GPP標準化作業,以因應產業自動化與製造測試要求。5G-ACIA會員遍布全球,其中不乏知名的行動通訊業者、網路設備製造商、晶片和裝置製造商、工業自動化解決方案供應商、汽車廠商和研究機構。加入5G-ACIA聯盟後,是德科技將持續與5G汽車通訊技術聯盟(5G-AA)等其他重要聯盟共同合作,以支援5G產業垂直應用的開發。 是德科技網路存取事業群副總裁Giampaolo Tardioli表示,我們很高興能加入5G-ACIA,以貢獻一己之力,確保5G技術能符合並因應自動化、工程與加工產業的使用案例和要求。此外,身為5G領導者,我們與3GPP和CTIA等標準化發展組織攜手合作,利用我們的專業知識,協助5G-ACIA建立有效的測試標準,進而確保相關元件獲得認證。 下一代5G行動科技將帶來包羅萬象的全新使用案例與商業模式,包括鎖定機器類型通訊和物聯網(IoT)領域的應用,不僅可實現具高可靠性和超低延遲的通訊,同時還可支援大規模的物聯網連接性。如此可大幅提升未來智慧工廠的靈活性、通用性、可用性及運作效率,以協助您共同邁向工業4.0的工業製造新時代。 5G-ACIA主席Andreas Mueller博士表示,近年來5G工業物聯網逐漸獲得重視,第一版標準已經發布,首批5G消費性產品也已問市,5G早已付諸實現。但我們仍需努力,以充分發揮5G在製造業的最大效益。5G-ACIA聯盟的成立,便是為了凝聚新興的工業 5G 生態系統中的相關人士,來共同達成此一目標。我們非常歡迎是德科技加入,以善用其測試與量測專業,實現5G工業應用大躍進。
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晶片微縮難度高 半導體製程技術日新又新

簡化製程 EUV扮關鍵要角 艾司摩爾(ASML)資深市場策略總監Boudewijn Sluijk(圖1)表示,VR/AR、自動駕駛、5G、大數據及AI等,持續推動半導體產業發展,為滿足各式應用、資料傳輸,以及演算法需求,晶片效能不斷提高的同時,還須降低成本,而極紫外光(EUV)在先進製程中便扮演關鍵的角色。 圖1 ASML資深市場策略總監Boudewijn Sluijk表示,自動駕駛、5G、AI等新應用推升晶片性能發展。 Sluijk指出,過往採用ArFi LE4 Patterning或是ArFi SAQP進行曝光的話,要實現7nm、5nm,須經過許多步驟。例如用ArFi LE4 Patterning需要4個光罩、4次曝光;用ArFi SAQP需要6個光罩、9次曝光,而EUV只需1個光罩、1次曝光(圖2)。採用EUV技術不但可有效簡化製程,加快產品設計時程,也因為曝光次數明顯減少,因而可有效降低成本,滿足晶片設計高效能、低成本的需求,因此,市場對於EUV的需求有增無減。 圖2 EUV技術可有效減少曝光次數,進而降低成本。 資料來源:ASML 據悉,ASML的EUV系統現在可用於7nm生產,滿足客戶對可用性、產量和大量生產的需求。截至2019第二季季末,半導體界已經有51個EUV系統被建置(包含NXE:33xx、NXE:3400B),而該公司在2019年的銷售目標為30台EUV。 據悉,ASML目前已出貨11台EUV極紫外光系統,而在第二季再度接獲10台EUV極紫外光系統的訂單,顯示市場對於EUV設備的需求相當強勁。因此,ASML的出貨計畫將著重於2019年下半年和第四季,而2019年的整體營收目標維持不變。 然而,隨著晶圓產能不斷增加,ASML也持續推出生產力更高的EUV設備。Sluijk透露,目前EUV系統在晶圓廠客戶端每天生產的晶圓數量超過1,000片,而ASML持續強化EUV微影系統「NXE:3400C」的量產效能,不僅在ASML廠內展示每小時曝光超過170片晶圓的實力,在客戶端實際生產記憶體晶片的製造條件下,也成功達到每天曝光超過2,000片晶圓的成果,甚至達到2,200片的紀錄。另外,ASML也計畫在2020上半年推出生產力更高的設備,將NXE:3400C的生產率提升至>185wph。 除提升設備生產量之外,因應未來先進節點,ASML也計畫推出全新EUV設備,名稱為EXE,不僅擁有新穎的光學設計和明顯更快的平台,且數值孔徑更高,為0.55(High-NA),進一步將EUV平台延伸至3nm節點以下,擴展EUV在未來先進節點中的價值。 Sluijk說明,此一產品將使幾何式晶片微縮(Geometric Chip Scaling)大幅躍進,其所提供的分辨率和微影疊對(Overlay)能力比現有的NXE:3400高上70%。EXE平台旨在實現多種未來節點,首先從3奈米開始,接著是密度相近的記憶體節點。另外,EXE平台有著新穎的光學設計,並具備更高的生產力和更高的對比度,以及更高的生產量,每個小時>185wph,且Reticle Stage比NXE:3400快上4倍;Wafer Stage比NXE:3400快上2倍。 Sluijk指出,該公司的EUV平台擴展了客戶的邏輯晶片和DRAM的產品路線圖,透過提供更好的分辨率、更先進的性能,以及逐年降低的成本,EUV產品將會在未來十年到達一個經濟實惠的規模。 滿足晶片設計PPAC需求 蝕刻/沉積技術不容小覷 科林研發(Lam Research)副總裁Yang Pan(圖3)認為,在高級節點,最重要的趨勢是垂直縮放(Vertical Scaling)以滿足「功率-性能-面積-成本(Power Performance Area Cost, PPAC)」的需求,特別是記憶體和邏輯晶片;垂直縮放過去5年徹底改變了NAND產業,目前3D NAND的出貨量多於平面NAND(Planar NAND)。垂直縮放的實現須透過沉積和蝕刻中的High Aspect Ratio(HAR)製程實現,而這是該公司所擅長的。 圖3 Lam...
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