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改善SiC MOSFET電壓漂移 調整閘極驅動負電壓是訣竅

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近年來,寬能隙半導體碳化矽(SiC)元件得到了廣泛的重視與發展。其中,SiC MOSFET與Si MOSFET在特定的工作條件下會表現出不同的特性,當中不可忽視的一環即是SiC MOSFET在長期的閘極電應力下會產生臨界值電壓VGS(th)漂移現象。

本文將闡述如何透過調整閘極驅動的負電壓,來限制SiC MOSFET臨界值漂移的方法。

SiC MOSFET會引起VGS(th)漂移

由於寬能隙半導體SiC材料的固有特徵,以及不同於矽(Si)材料的半導體氧化層界面特性,會引起臨界值電壓變化以及漂移現象。要理解這些差異,解釋這些差異與材料本身特性的關係,評估其對應用、系統的影響,需要更多的研究及探索。

就靜態閘極偏壓而言,針對Si元件臨界值特性的標準測試流程並不適用於SiC MOSFET。因此,需要使用一種「測試/偏壓/測試」的新測試方法以評估SiC MOSFET的偏壓溫度不穩定性(Bias-Temperature Instabilities, BTI)特性。它可以區分VGS(th)的可恢復漂移以及永久性漂移。

除了靜態閘極偏壓引起的漂移以外,SiC MOSFET的臨界值電壓也會因元件的開關工作而產生額外的漂移,此額外的漂移衹有通過長期開關測試才能被觀測到。就目前所知,此效應源於柵氧陷阱的動態反應,此效應是目前SiC MOSFET技術的通用特性。

以英飛凌旗下的CoolSiC MOSFET為例,數據顯示,長期的開關應力會引起VGS(th)的緩慢增加。然而,不管所選擇的參數如何,從未發現臨界值電壓VGS(th)會出現負漂移。這一現象,在不同品牌、不同技術的SiC MOSFET上均可以觀測到,在相同偏壓條件下不同元件的VGS(th)漂移值是近似的。VGS(th)上升會導致RDS(on)的輕微上升,長期影響是通態損耗會增加。

需要注意的是,元件的基本功能不會被影響,主要有:

•耐壓能力不會受影響

•元件的可靠性等級,如抗宇宙射線能力,抵抗濕氣的能力等不會受影響

•VGS(th)漂移會對總的開關損耗僅有輕微影響

影響VGS(th)漂移的參數主要包括:

•開關次數,包括開關頻率與操作時間

•驅動電壓,主要是負關斷電壓VGS(off)

以下參數對開關操作引起的VGS(th)漂移的影響可以忽略:結溫、漏/源極電壓、漏極電流、開關斜率dv/dt,di/dt。

RDS(on)增加導致結溫升高

長期來看,對於給定的VGS(th)臨界值漂移的主要影響在於會增加RDS(on)。RDS(on)的增加會增加導通損耗,進而升高結溫。在計算功率循環時,須要把這因素導致的額外結溫增加也考慮進去。

此額外結溫的增加是否需要格外重視取決於實際應用及工況。在很多案例中,即便是20年工作壽命到期後,此額外結溫的增加仍然可以忽略不計。然而在另一些應用中結溫的增加可能就會很重要。因此,在這種情況下,就須要根據下述的設計指導進行驅動電壓選擇。

下面兩個例子(DC-AC逆變器中的半橋配置)說明了不同的影響結果,在不同應用中的固定範圍的VGS(th)漂移。第一個例子代表了應用案例中導通損耗(Pcon)占大部分,第二個例子考慮了開關損耗(Psw)和導通損耗平均分配。這兩個例子的參數列於表1。

這兩個範例顯示了VGS(th)漂移對損耗分布和結溫的不同影響。在圖1中,可預期在工作壽命結束時,兩個範例都有1V的相同VGS(th)漂移。

圖1 在應用中VGS(th)漂移對結溫的影響。

從表1中的範例1可以看出,當導通損耗占大部分時,VGS(th)的漂移將導致明顯的總損耗增加與結溫上升。對於這樣的應用,稍後會詳述必須考慮的設計準則。對於損耗平均分布於開關和導通損耗的應用,VGS(th)的漂移對總損耗和結溫僅有輕微影響。整體而言在其他的應用中若損耗主要由動態損耗決定,則VGS(th)漂移的影響幾乎可以忽略不計。

透過控制閘極負壓VGS(off),VGS(th)漂移可以被限制在一個可接受的水平內。在任何情況下,關斷電壓的上限都是0V。同時,關斷電壓的下限需要根據開通電壓、開關頻率,以及操作時間來選擇一個合適的值,使RDS(on)的增加限制在一定範圍之內。

VGS(th)的動態漂移隨著開關次數的增加而增加,為了好理解,總的開關次數被轉化為10年內不間斷工作(24小時/7天)的歸一化的工作頻率。知道實際工作頻率(kHz),目標壽命(年),以及工作壽命之內系統工作的百分比,歸一化的工作頻率可以透過以下公式計算:

歸一化頻率fsw=實際工作頻率fsw[kHz]×壽命[yrs]×工作時間占比[%]÷10[yrs]

儘管基本晶片技術相同,CoolSiC MOSFET工作區域是分別針對在模組封裝與離散元件封裝而給出的。這是因為閘極訊號的過衝和下衝很大程度上取決於工作條件、電路設計和寄生參數。特別是,離散元件由於電路設計、應用條件、逆變器拓撲、閘極驅動設計、PCB布局和散熱設計具有更大的靈活性,所以推薦工作區(ROA)因而更加保守。由於這些原因,考慮到閘極驅動器設計的變化,計算離散元件的ROA時已加上了2V的潛在過衝電壓。對於模組,因為可以透過適當的閘極驅動器設計實現0V過衝,所以計算ROA時不須要考慮額外的過衝電壓。

以基於實際運作工況估算得出的歸一化開關頻率,可以從圖2和圖3之中找到已經包括潛在下衝電壓的最小關斷閘極電壓,分別用於離散元件和模組產品。

圖2 分立器件產品的最小關斷閘極電壓。
圖3 模組產品的最小關斷閘極電壓。

以下的例子可方便理解上述計算方法,如一個光伏逆變器的典型工作情況:實際工作頻率20kHz,目標工作壽命20年,工作佔比50%。

歸一化開關的工作頻率如下:20kHz×20yrs.×50%/10yrs.=20kHz

對於18V的導通電壓,採用離散元件的CoolSiC MOSFET,包括下衝在內的關斷閘極電壓必須介於-4.6V~0V之間。如果開通電壓為15V,使用模組封裝的MOSFET,包括下衝的關斷閘極電壓必須設計在-7.7V~0V之間。

制定推薦工作區的最低關斷電壓,是確保在整個產品壽命期間在Inom和Tj= 125℃工作時的RDS(on)不會增加超過初始值的15%。RDS(on)的增量取決於工作電流Id,和結溫Tj。最後要注意最低峰值閘極電壓絕不能超過數據表中的最大額定值。此要求與ROA無關。

VGS(th)漂移為長期效應 僅須考慮重複過衝/下衝電壓

VGS(th)漂移是一種長期效應,因此只需考慮重複的過衝和下衝電壓。由偶發性工況如電壓不穩、短路情況等引起的閘極電壓的過衝和下衝不應被考慮。

只有電壓尖峰直接到達晶片上的閘極-源極端,才會影響VGS(th)漂移而需要被考慮。要透過實驗量化電壓過衝和下衝尖峰值,理想情況下應直接在晶片端子處測量。但是,實際上這並非總是可行,因此以下指南提供了一個很好的估測方法:

.如果不需要隔離,請使用高頻寬(100MHz)探頭直接測量。

.或者,如果隔離是必需的,則使用具有高頻寬和高共模抑制能力的差分探頭。

.始終盡可能靠近晶片進行測量,閘極電壓過衝和下衝的形狀可能因各個逆變器而異,應考慮峰值電壓(圖4)。

圖4 閘極電壓過衝和下衝。

閘極導通電壓高於15V具反效果

以CoolSiC MOSFET為例,該產品可以使用18V閘極電壓,以獲得更好的電流處理能力。請注意,高於15V的閘極導通電壓具有兩種相反的效果:

.它降低典型的RDS(on)及RDS(on)對VGS(th)漂移的靈敏度。

.在壽命結束時,使用18V閘極導通電壓產生的VGS(th)的漂移可能高於15V的閘極導通電壓,但由於較大的過驅動電壓,RDS(on)增加將會降低。

另外,還應該考慮到與15V導通電壓相比,短路峰值電流要高得多。因此,在18V導通電壓時,元件將無法維持數據手冊(Data Sheet)中所述在15V的導通電壓下的短路能力。

當工作在較低的負關斷閘極電壓(例如-2V而不是-5V)時,對應用的影響很小。但是應該考慮幾個與應用相關的參數:

.Eon和Eoff會略有變化

.SiC MOSFET體二極管的正向電壓將降低

.誤導通風險增加,可能會增加開通損耗。如在0V關斷、較高的的關斷閘極電阻、更大的閘極-源極迴路電感等情況中更加明顯。

須要強調的是,離散元件例如CoolSiC MOSFET,可以安全地在0V關斷電壓時順利工作。因此,指南中的值不會對性能產生任何負面的影響。此外,它甚至可以容許使用更簡單的單電壓閘極驅動電路設計。對使用單開關拓撲結構的CoolSiC MOSFET模組(如升壓電路),通常可以使用0V閘極關斷。

(本文由英飛凌提供)

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