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Applied Materials

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應材發表選擇性鎢製程 解決平面微縮瓶頸

美商應用材料(Applied Materials)公司推出新的選擇性鎢(Selective Tungsten) 製程技術,可提供晶片廠商以新的方式構建電晶體觸點,這是連結電晶體與晶片中其他電路非常關鍵的第一層電路。這項選擇性沉積技術能降低影響電晶體性能,導致耗電量增加的接觸電阻。透過這項技術,電晶體的節點微縮與觸點能縮小至5奈米、3奈米甚至更小,並同步提升晶片功率、性能與面積/成本(chip power, performance and area/cost, PPAC),解決邏輯晶圓代工節點中持續進行平面(2D)微縮所面臨的瓶頸。 圖 應用材料公司推選擇性鎢製程。來源:應用材料公司   雖然微影技術的進步可有效縮減電晶體觸點通孔的大小,但使用金屬填滿通孔的傳統作法仍會嚴重影響PPAC。傳統上,電晶體觸點以多層方式形成。首先,接觸通孔是先襯上黏著層和氮化鈦阻障層,接著利用沉積技術產生成核層,最後再使用鎢來填滿剩餘空間,鎢便因其低電阻係數成為接觸金屬的首選。 7奈米製程技術的接觸通孔直徑只有20奈米。襯墊/阻障層與成核層就佔了75%的通孔體積,只剩下25%供鎢使用。細薄的鎢線具有很高的接觸電阻,會嚴重影響PPAC與2D微縮效果。 VLSIresearch董事長暨執行長Dan Hutcheson表示,極紫外光(EUV)的興起使得團隊必須解決一些重大的材料工程挑戰,以持續進行2D微縮。襯墊阻障層就像是這個產業的動脈硬化斑,不斷阻撓晶片中的電子流動,以至於無法達到頂尖的性能。而應用材料公司選擇採用鎢技術,正是達到創新突破的關鍵。 應用材料公司的Endura Volta選擇性鎢化學氣相沉積系統,能讓晶片製造商在電晶體的接觸點通孔內進行鎢的選擇性沉積,以消除線性/阻障層及成核層。整個通孔會充滿低電阻鎢,並解除後續PPAC的瓶頸。 選擇性鎢沉積技術是一項整合材料解決方案,在純淨、超高真空環境中結合多重製程科技,比無塵室本身還要潔淨許多倍。原子層表面處理可應用於晶圓,採用獨特的沉積製程,讓鎢原子在接觸點通孔內選擇性沉積,形成無分層、無縫、無間隙自下而上的完美填充。  全球已有客戶採用全新的 Endura 系統,其他產品組合包括選擇性磊晶 (selective epitaxy)、選擇性沉積 (selective deposition) 以及選擇性移除 (selective removal)。這些選擇性製程能讓晶片製造商運用全新方法製作、形塑並調整材料,以便在 PPAC 持續精進。
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應材22億美元購併國際電氣 鞏固龍頭地位

為擴大5G、人工智慧(AI)等新興市場,以及持續鞏固市場龍頭寶座,應用材料(Applied Materials)宣布以22億美元收購競爭對手國際電氣(Kokusai Electric)。應材指出,此一購併案將會為公司帶來互補、領導性的批量晶圓製程系統業務,為應用材料增加全球客戶服務業務與客戶支援能力;另外,當交易完成時將對非GAAP每股盈餘產生立即性的增值。 應用材料公司總裁暨執行長Gary Dickerson表示,國際電氣擁有堅實的創新文化與客戶關係,著墨於半導體設備市場的快速成長領域;而隨著國際電氣優秀團隊的加入,應材將為客戶加速創新,為股東開創更大的價值。 國際電氣為半導體批量製程系統與服務公司,旗下客戶包括記憶體、晶圓代工、邏輯等,同時在日本與亞洲有堅實的客戶關係,並具備完善的供應鏈和製造能力。 應材認為,國際電氣原有的製程系統,與該公司在單晶圓製程系統的產品線互補,而這樁購併案交易完成後,國際電氣將會納入應材半導體產品事業群其中一支,並持續在日本發展,且在日本的富山與南韓天安市皆分別設有技術中心與製造中心。應材董事會已通過這樁交易案,預計整樁交易案會於12個月內完成,須經監管部門核准及符合其他慣例成交條件。 另一方面,國際電氣也希望透過此一購併,運用應材的業務基礎(結合自身原有業務優勢),為客戶提供更好的服務和價值;利用應材和自身技術、研發結構、人力資源,進一步加大研發力道,加快實現5G、人工智慧等創新應用;最後則是透過應材和國際電氣全球分公司之間的協同效應,加強銷售、生產能力,藉此提高服務品質和增強供應鏈。 國際電氣總裁暨執行長金井史幸指出,與應用材料公司合併,對客戶與員工而言都十分具吸引力,我們欣見國際電氣資深團隊與應材全球發展、客戶支援與服務能力相互融合;此一合併案能加速雙方能力,為客戶帶進耳目一新的技術。
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