技術探勘
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智慧建築應用腳步加快 BIoT創新技術扮要角
數位協定取代傳統管路
最早的建築物自動化系統是氣動式的,透過在大樓裡鋪設複雜的銅導管,再根據氣動感測器的輸入訊號來切換氣動致動器和閥門的開關,以控制每個房間的空調系統。之後,氣動系統被效能更佳的電子開關所取代,直到最近,則被數位控制器取代。
在建築物自動化系統的推演過程中,可控制的系統已從冷暖空調(HVAC)系統擴展到更廣泛的範圍。現今,藉由BIoT創新技術將帶來無限的發展可能性,潛在的智慧建築應用除了恆溫器、照明和安全基礎設施,還包括窗戶、門鎖以及室內和室外電子看板等。而且,智慧建築的應用範圍,還在持續擴展中.
雖然,傳統的建築物自動化系統僅能部署在像是商業大樓的大型建築才符合經濟效益,但現在,新興的BIoT技術已為中小型建築業主帶來了具成本效益的解決方案。透過利用低成本的連接、感測與雲端運算能力,以及充裕的資料儲存能力,已推動了智慧建築市場的快速成長。
現代建築物的建造時間大約從五十年前開始,但採用的技術往往每十年就會汰換一次,頂多維持二十年。對房地產業主來說,不可能一有新技術出現就拆掉舊建築,更換新設施,必須依照需求來逐步更新。
一棟大樓一開始可能是先安裝數位控制的HVAC系統,然後再增加安全攝影機網路、接著是中央控制的照明和百葉窗、電子鎖,甚至考慮用數位看板來管理緊急情況。每次安裝的系統都是來自不同的供應商,因為很少公司能夠同時在不同的領域中保有優勢。
開放標準協訂整合度更高
上述情形造成彼此不相容的複雜網路和技術組合。雖然每個系統都有其各自用途,但要管理這些系統並使其協調運作,變得更困難。最後,開放的標準協定,包括BACnet、LonWorks,以及Tridium的Niagara框架的興起,便取代舊有技術協定。
雖然這些標準提供更高程度的整合,但它們在互通性、成本以及開放性等方面也都各有限制,沒有單一系統能夠完全滿足建築物自動化中最常用標準的需求。根據一份針對建築物自動化系統進行的學術評估報告指出,為彌補各系統不足,導致非標準化解決方案的發展,這反而更進一步阻礙系統之間互通性。
BIoT為中小企業量身打造
透過擴大建築物監控與管理的範圍,並降低擁有成本,BIoT技術顛覆了現有的遊戲規則。因此,在美國,佔98%商業建築市場以及65%樓板面積的中小企業也能跨入此一市場。為了簡化部署與維護成本,業者一直期望能實現無線部署的目標。而現在,歸功於低成本的無線感測裝置,且能將多種感測器整合到單一封裝中,因此使建置成本大幅降低(圖1)。
圖1 BIoT的創新技術顛覆了現有的遊戲規則,透過利用低成本的連接、感測與雲端運算能力,以及充裕的資料儲存能力,推動智慧建築市場的快速成長。
但是,BIoT系統不僅是硬體部署,從感測器收集到的數據也同樣具有價值,因此需要藉助系統的分析功能。新的商業模式,例如基礎設施即服務(Infrastructure-as-a-Service, IaaS)、平台即服務(Platform-as-a-Service, PaaS)、以及軟體即服務(Software-as-a-Service, SaaS),提供了不同的商業模式,讓業者擴展至存取雲端的數據分析與儲存服務,輕鬆地管理所需的雲端技術。
值得一提的是,這些系統可以無縫整合到智慧手機中,讓人們可直接從遠端監控住家或房產。透過友善的介面提供監控、分析和控制功能,BIoT系統可大幅降低對專業知識和培訓的需求,進而最佳化使用者的智慧建築室內體驗、且維護基礎架構,並進而節省能源成本。
從歷史上來看,每個建築物的自動化功能都是獨立開發完成的。因此,就技術、平台和架構來說,今天的智慧建築硬體生態系統仍是各自為政。由於業者期望能把多項功能整合到單一的全方位解決方案,因而帶動了多個趨勢的興起。
另一方面,業者已經體認到,需要建立強大的聯盟來整合和簡化他們的產品。在Memoori發布關於智慧商業建築BIoT的報告中,說明了建築系統製造商、主要ICT供應商的IoT平台解決方案,以及軟體、應用程式和平台領域之間的合作夥伴關係和策略聯盟擴展。這些聯盟通常是來自於不同的利基市場,包括智慧照明、HVAC和電梯業者。
在管理服務和架構方面則是另一種方法,旨在使各種不能互通的解決方案能夠協同運作。服務導向架構,如BACnet網路服務和oBIX,可透過在已部署的建築物自動化技術和客戶端IoT應用程式之間增加抽象層(Abstraction Layer)來執行。
接下來的挑戰是需克服IoT應用的網路安全和數據隱私問題,BIoT也不例外。隨著越來越多的元件連接到日益複雜的解決方案中,網路安全的威脅也變得越來越具挑戰性,唯有當系統中最脆弱環節也具備應有的安全性時,才能達到真正的安全。
根據Memoori的估計,到2022年,智慧商業建築的新興網路安全市場將以超過15%的年複合成長率增加,這是市場發展的必然結果。
智慧連網建築新興技術湧現
隨著智慧建築市場的興起,也帶動了許多技術試圖競逐此商機,但目前尚未有「一體適用」(One-size-fits-all)的解決方案出現。即使是具有從數十個到數百個感測器的小型連網建築物,平均也會用到三種不同的通訊技術。而且,隨著建築物的規模變大,系統也越來越複雜。現階段,專有和開放技術正相互競爭,試圖以單一的統一標準來整合不同系統的努力也在進行中。
除了通訊技術的創新之外,我們也看到了基於網狀和毛細管網路的新架構出現,能夠進一步最佳化頻寬使用,並降低擁有和維護成本。新興的室內定位技術和創新的感測方案,也推動了智慧建築新使用案例的實現,像是資產追蹤、正確的訪客人數計算等。此外,透過人工智慧的應用把更多的分析功能從雲端帶到終端裝置,也降低對頻寬的需求。
雖然室內通訊的骨幹仍可能是利用TCP/IP 或乙太網路等有線技術,但無線技術正在擴大其在智慧建築中的應用。其中,常見的是短距離無線技術,它可提供連網功能並實現無線感測器網路。廣泛內建於智慧型手機和平板電腦中的藍牙技術,則是控制智慧家庭裝置的必然選擇。
由於對配置裝置零需求,在建築物的警報面板應用中,蜂巢式技術也很常見。LTE Cat 1可提供串流語音和視訊、以及智慧量表所需的足夠頻寬。4G低功耗廣域網路(LPWAN)技術,包括LTE-M和NB-IoT,已成為對智慧量錶更具吸引力的蜂巢式技術,可滿足其極低的頻寬需求。這些通訊連接技術方案在5G世代中,也將以大規模機器型態通訊(Massive Machine Type Communications, mMTC)形式持續發展。
最終,通訊技術的最佳選擇,仍需取決於實際的使用案例需求。雖然蜂巢式裝置易於安裝,但由於需要行動數據方案,因此大規模部署的成本較高。而針對更高密度的部署,例如智慧照明、暖氣節電器、以及無線室內感測器網路等,藍牙網狀網路可以發揮其短距離通訊的技術優勢。透過與閘道器連結,藍牙網狀網路能以無線的方式把分散式裝置與內部的建築物自動化系統或雲端服務相連。
此外,2019年初,藍牙技術聯盟(Bluetooth SIG)宣布,為其定位服務解決方案推出了增強功能。基於藍牙的定位技術已長期用來協助使用者利用藍牙標籤(Bluetooth Tag)尋找物品。透過在建築物內的固定位置安裝藍牙接收器,房產業主可提供即時定位服務,以支援追蹤人員、資產與其他物品的功能。此外,信標設置也是在大型建築物中提供引導服務的常見解決方案。針對這些使用案例,新的增強功能可增加尋找方位應用,實現準確度小至公寸級(Decimeter-level)的室內定位服務與其他應用。
無線通訊模組選得好 加速產品開發設計
要為多樣化的使用案例選擇適當的無線通訊技術是相當具挑戰性的,需考慮節點間的互通性、覆蓋範圍、可擴充性以及安全性,而採用預先通過測試與認證的通訊模組,更可協助製造商輕鬆地完成設計並加速產品開發週期。
u-blox擁有涵蓋GNSS定位、蜂巢式以及短距離無線電技術的完整產品組合,且在全球各地建立了許多的應用實績,不僅是個別技術的供應商,更能以豐富的經驗與技術支援能力,成為結合這些技術的整體解決方案供應商,提供智慧建築應用所需的各種無線通訊方案,能助力業者加速智慧建築應用的實現。
此外,基於產品都是專為使用週期長的應用而開發,加上靈活的套疊式(Nested Design)設計概念,讓產品可隨著標準演進輕易地無縫升級到新技術,降低智慧建築應用產品世代更迭的風險、支出和維護費用,也是業者在設計產品時不可不考慮的重點,方能在新的智慧時代保持領先優勢。
(本文作者為u-blox台灣區總經理)
留意直流偏差效應 MLCC電容損耗免煩惱
多層陶瓷晶片電容器(MLCC)是當今使用最廣泛的陶瓷電容器之一。這並非沒有道理:它們在最大標稱C值和更低ESR值(等效串聯電阻)方面的最佳化十分突出。然而,伴隨而來的是更大的漂移,特別是在直流電壓、溫度和時間方面(圖1)。
圖1 由於2類陶瓷電容器使用鐵磁性基材鈦酸鋇,因此其C值會因溫度、直流和交流電壓以及部件的使用年限而有變化。
現在,2類陶瓷電容器已達到如此高的電容,這將反覆導致其在運作期間的實際電容之誤算。人們通常不知道元件在實際應用中的表現如何,以及它們為什麼在施加電壓時變化如此之大,一個有關的重要電氣參數就是直流偏壓(DC bias)。
陶瓷電容器易產生直流偏壓效應
直流偏壓效應可在實驗室中獲得充分的展示。TDK使用標稱電壓為25V的3216X7R1μF電容進行測試,並將其連接到LCR儀表。這在0V時顯示1μF。如果施加25V電壓,則可以檢測到與標稱電容值相比超過40%的電容損耗。
其原因在於陶瓷電容器的實際結構。它們的介電材料是從鈦酸鋇獲得的,鈦酸鋇是一種鐵磁性材料,其分子附著在結構鋇2+、氧2-、鈦4+上。
在這種情況下,鈦位於中間。該分子結構在高於居里溫度(約+125℃)時具有立方的晶體結構,並且在低於居里溫度時變為四方的晶體結構。這會產生一種稱為偶極子的極性,其中軸的一側會更正(More Positive),另一側會更負(More Negative)。
在沒有施加直流電壓的情況下,沒有電場,偶極子在整個晶體結構中隨機排列(自發極化)。同時,介電常數高,這也導致高電容。如果現在施加低直流電壓,則電場會由於極化而影響一些偶極子。它們開始與電場平行排列,而降低了電容。
如果施加更高的直流電壓,則有幾個偶極子會讓自身與電場平行排列,並且電容會持續減少。當標稱電壓施加到電容器時,電容水準可能會從標稱電容水準下降多達50%或更多(圖2)。
圖2 由於直流電壓引起的C值變化
改善電路設計避免電容影響
直流偏壓對2類陶瓷電容器電容的影響無法避免。不過,此一情況是有辦法可以處理的。比較2類電容器的幾條直流偏壓曲線,可說明有哪些可能性能夠減少它在應用中的影響。
使用具有1nF和標稱電壓為16V的電容器,電容在10V時降低了近9%,在16V時降低了21%。對於某些設計而言,這已是不可接受的情況。使用標稱電壓為25V的相同電容器,電容在10V時僅下降2%。
這是因為陶瓷電容器中的介電層在較高的標稱電壓下較厚,電介質較厚意味著電場較弱,其對偶極子的影響也較少。在10V時,相同封裝尺寸的470pF電容的電容變化僅為0.6%。如果設計允許這些電容中的兩個並聯連接,這將是直流偏壓效應的可能解決方案,這是因為較低的電容值允許較厚的介電層。有時,具有相同電容值的電容器也可使用較大的封裝。它們通常還具有較厚的介電層,因此具有更好的直流偏壓行為。
忽略直流偏壓將導致電路不良
用一個實際的例子來說明如果在應用中未考慮直流偏壓會出現什麼情況。一位客戶使用08054.7μFX5R多層陶瓷電容器,電壓為25V,標稱容差為10%,測量參數在1V eff時為1kHz。使用者抱怨元件有缺陷,因為它們的C值在14.5V時僅為1μF左右,而不是與「黃金」樣品一樣的大約1.5μF。這將導致15V時的紋波訊號,進而引起IPM驅動器電源的欠壓和不良的MOSFET換向(Commutation),最終導致電機繞組出現過電流的情況。
事實證明,電容器製造商使用了兩種不同的原料混合物來維持供應電壓的可靠性。在14.5V時,一種混合物顯示數值約為1μF,另一種則約為1.5μF。換句話說,兩者都符合特性資料(圖3和圖4)的說明。在使用者使用具有較高數值的元件來進行偏壓測試,而並未檢查差異原因或者考慮相應的一般圖表時,就會產生爭執。應用中的臨界值大約為1.25μF。最初,客戶恰好收到具有較低直流偏壓的元件,當客戶最終收到直流偏壓特性更明顯的元件時,這些元件會表現出電路的不良行為。
圖3 0805 4,7μF電容器的特性資料
圖4 MLCC中的各種基材顯示出不同的直流偏壓行為。
這個例子說明,在短缺情況下,瞭解和考慮應用中各項功能的實際要求以及MLCC的行為尤為重要。必須注意哪一種實際電壓是必要的、在實踐中需要考慮哪些溫度、有效電容值的閾值在哪裡等。如有疑問,開發人員應尋求電容器製造商或經銷商的建議,特別是如果與特性資料和圖表存在相對明顯的偏差時;因為與規範資料相比,這些並不能得到保證。
在這種情況下,特別建議要使用電容器的直流偏壓曲線來預先檢查,電容對於實際工作電壓是否可接受。如果不是這種情況,可以利用以下三種方式將電容損耗減到最少。
1.將兩個或多個電容值較低的電容器並聯。
2.選擇具有更高標稱電壓的電容器。
3.使用具有更大封裝的電容器。
這三種方法通常都具有較厚的介電層,有助於將由直流偏壓所引起的電容損耗減到最少。這可以避免技術上的問題,並為開發人員提供更多的選擇。
(本文作者為儒卓力陶瓷電容器現場應用工程師)
相容性大突破 USB4傳輸速度更快更穩
讓我們回到1996年,當時發布的USB 1.0只有兩種傳輸速率:12Mbps與1.5Mbps;接著,來到2000年,近代最普遍的傳輸規格USB 2.0問世,傳輸速率提高至480Mbps,同時支援向下兼容(Backwards Compatibility)。在2006年,當時硬碟傳輸速率超過100MB/s,遠超過USB 2.0的傳輸限制,於此同時,網路技術快速發展,帶動數位內容產業,應用急遽擴增,於是,協會於2008年發布USB 3.0規格,也就是後來的USB 3.1 Gen1,傳輸速率可達5Gbps,仍支援向下兼容USB 2.0。
時代和科技持續地前進,4K/8K高畫質影片為人們帶來前所未有的觀影體驗,更大容量的傳輸與儲存需求不容忽視。USB 3.1 Gen2規格再次提高傳輸速度至10Gbps。2017年9月推出的USB 3.2規格,定義同時使用USB Type-C的兩對高速訊號對,資料傳輸的速度再次由一對訊號線的10Gbps翻倍為兩對訊號線的20Gbps;由於同時使用兩對訊號線進行傳輸,因此唯有USB Type-C介面可支援20Gbps的傳輸速率規格。透過USB Type-C的訊號腳位定義(圖1),可幫助我們更容易理解上述USB的規格與相容性。
圖1 USB Type-C介面之訊號腳位定義
USB Type-C介面共有24根腳位,為了完美解決方向性的限制,此24根腳位設計成左上與右下對稱,其中USB 2.0使用中間D+/D-訊號,而前面提到的高速訊號對,則是圖1中的高速通道1與高速通道2。在USB 3.2規格問世之前,只使用其中一組通道進行USB資料傳輸;而在USB 3.2世代,我們同時運用高速通道1與高速通道2,使資料傳輸速率可達到20Gbps。
USB-IF協會於2019年9月釋出最新的USB4規格書,本文將針對USB4之規格和USB4定義的初衷進行介紹。讓我們以這段來自USB4規格書的引述揭開序幕:
.透過USB Type-C介面,提供影像、資料與電源的傳輸。
.新的規格能向下兼容於既有的USB及Thunderbolt產品。
.定義介面的相容性,以符合使用者以往慣有的使用經驗與預期。
.對於頻寬、電源與其他性能有關參數的控制,提供主控端更高的彈性。
USB4基於Type-C介面設計
透過以上描述,可清楚了解USB4是基於USB Type-C介面而設計,除了原本可向下兼容於USB 3.2與USB 2.0之外,USB4並將原本USB...
六大關鍵挑戰待克服 智慧折疊手機發展鴨子划水
早期的採用者樂於接受市場推出的這類令人振奮的新技術(圖1)。但從業界廣泛觀點來看,哪一種手機設計才會嬴得消費者的歡心,又必須克服哪些科技和技術性障礙才可實現量產?
圖1 折疊裝置類型
資料來源:Technobezz/itechfuture/mspoweruser/Forbes
折疊手機挑戰眾多
在開發折疊手機或其他裝置時,有很多問題需要解決,包括電池壽命、外形因素、製造成本和價格。當然,最明顯和最困難的問題是開發出可支援經常彎折的顯示螢幕,因為使用者將在好幾年的時間內經常開合他們的裝置,以下內文將深入探討。
電池壽命
折疊式設計可能是減少電池壽命的一個主要原因,因為這類手機要為兩個顯示螢幕提供電池電力。
智慧型手機的電池容量通常是4,380mAh,視使用頻率而定可能可以待機兩天,但支援大於7吋的迷你平板螢幕運作需要更多的電力,同時折疊螢幕的開合以及螢幕之間的切換,也會消耗電力。因此,留給消費者的是更短的電池壽命,或更厚重的手機。
外型因素
智慧型手機的趨勢是螢幕越來越大,手機整體越來越薄,並且隨著採用OLED和電池技術的進步而具備愈來愈好的性能。但當口袋中的手機厚度變為原來習慣的兩倍,消費者是否會感到滿意是未來業者重要的設計考量。
成本和價格
根據OLED顯示器成本模型來看,標準的7.3 QHD OLED顯示螢幕的成本是50~35美元,觸控組件的成本是15美元。相較之下,折疊式7.3 WQHD OLED折疊顯示螢幕的成本是100~70美元,觸控模組的成本是25美元,觸控層和封裝的特殊材料占增加成本中的大部分。
另外,製程不成熟造成生產良率低,也是使成本增加的原因。標準智慧型手機 OLED顯示螢幕的良率是60~70%,而折疊螢幕的良率卻低於30%;此外,現在仍難以衡量消費者對折疊式行動裝置的接受度以及普及的程度。雖然初步預測顯示消費者有很強烈的興趣(圖2),但初期銷售量卻很低,這顯示消費者對這類技術有高度的興趣,但從零售層面來看則抱持觀望態度。
圖2 折疊OLED出貨預測
資料來源:IHS Market
挑戰彎曲極限
在彎曲問題上,目前還未開發出明確解決方案,但半導體產業正針對該問題進行大規模的研究。可彎曲折疊裝置必須採用柔性OLED技術,因為現行的LCD薄膜電晶體(TFT)無法適用在重複彎曲的裝置,基於相同原因,基板必須是聚醯亞胺,而不是玻璃。
另外,組成顯示螢幕的整體層堆疊必須超薄和非常堅固,整體厚度(包括OLED裝置)要小於1.0mm。需要的膜層包括:折疊基板上的TFT、覆蓋TFT的隔離層、隔離層上的OLED、基板上的封裝層、與封裝層結合的柔性觸控式螢幕面板,以及一層保持顯示膜的光學性質的硬塗層窗膜,(可能)使顯示螢幕表層可以抗刮、耐磨損和撞擊,手機彎曲時,所有這些膜層必須保持正常功能。
彎曲這種堆疊的多層膜時,堆疊中有個位置稱為中性軸或(中性彎曲面),該處的應變力為零,找出中性面內的顯示模組位置可將應變和應力降到最小。這之所以這麼重要是因為在向內彎曲上的太多壓縮應力會導致屈曲和剝離,而過大的拉伸應力可能會導致破裂和剝離(圖3)。
圖3 彎曲測試失敗模式
資料來源:Yves Leterrier, in Handbook of Flexible Organic Electronics:Materials,
Manufacturing and Applications, Woodhead, 2015
雖然作為獨立的薄膜,顯示螢幕堆疊中的每個元件可以彎曲到相對較小的半徑(小於5mm),但當元件黏合後彎曲時,機械應力在結合層之間傳遞,在堆疊的多層膜中出現拉伸和壓縮力,導致結合層的剝離和屈曲。
因此,工程師對黏合的方式進行改善,使堆疊膜層作為單獨的元件起作用,而不受相鄰膜層的約束。這是為了在顯示螢幕堆疊彎曲(特別是彎曲半徑小於5mm)時,可以防止機層的剝離和屈曲。
彎曲測試
彎曲測試也是實現折疊螢幕的重要步驟。對此,半導體設備業者如應用材料公司顯示及柔性技術事業群(DFT)的研發部門,便測試了聚二甲酸乙二醇酯(PEN)膜的薄膜封裝,以評估薄膜的可靠度,以及是否能夠保留原有特性來作為防止空氣和水氣侵入OLED材料的屏障。
低於1%的整體臨界應變目標是楊氏模數的一個函數,或定義材料中的應力和應變之間的關係,以及基板整體厚度(圖4)的機械特性。DFT事業群測試了堆疊在 50μm PEN基板上的多層薄膜封裝膜,這項測試包括在專門的彎曲測試機器(圖5)上,將基板以半徑2.5mm彎曲200,000 次。
圖4 折疊基板的臨界應變公式
資料來源:Yves Leterrier, in Handbook...
iNEMI FoS具經濟效益/迅速/簡易 爬行腐蝕驗證效率大增
一般來說,這些電子產品易受到環境中的腐蝕性氣體、水分、汙染物和懸浮微粒的影響,讓敏感性電子元件與印刷電路板產生爬行腐蝕(Creep Corrosion)的失效現象,嚴重恐導致設備電氣短路故障的風險。然而,傳統爬行腐蝕驗證方法「混合流動氣體(Mixed Flowing Gas, MFG)」腐蝕試驗成本昂貴,並非能所有產業鏈的客群所接受並採用。
針對此一挑戰,國際電子生產商聯盟(International Electronics Manufacturing Initiative, iNEMI)於2018年8月特別針對爬行腐蝕的驗證發表了一份白皮書(圖1),而電子產品驗證測試實驗室宜特科技與國際系統大廠也共同剖析造成爬行腐蝕的關鍵因子,並研究開發出符合經濟效益、簡便迅速地驗證電子產品爬行腐蝕失效的測試方法「iNEMI硫磺蒸氣(Flower of Sulfur, FoS)腐蝕試驗,期能協助產業鏈客群針對爬行腐蝕的失效問題進行預防措施並找出因應之對策。
圖1 國際電子生產商聯盟(International Electronics Manufacturing Initiative, iNEMI)的爬行腐蝕驗證白皮書(White Paper_iNEMI FoS Test)
爬行腐蝕常見於PCB/導線架封裝
爬行腐蝕是屬於硫化腐蝕(Sulfur Corrosion)其中一種的失效機理,典型的案例可由印刷電路板(PCB)與導線架封裝(Leadframe Packages)(圖2)元件最為常見。由於裸露的金屬銅接觸到環境中硫化物的腐蝕性氣體進行反應生成硫化亞銅(Cu2S)的腐蝕產物,其固體腐蝕物沿著電路與阻焊層/封裝材料表面遷移生長的過程,導致相鄰焊盤和電路間的電氣短路失效現象,此一現象稱之為爬行腐蝕的失效模式。
圖2 導線架封裝元件的爬行腐蝕(受限於導線架鍍層與封裝材料氣密性
一般在爬行腐蝕的誘發過程中是不需要任何電場作用就會發生的失效機制,因此其腐蝕產物的遷移與生長並無一定的方向性。而通常要促使爬行腐蝕失效機制的發生須具備以下兩個條件:
.可發生金屬硫化腐蝕的特徵位置,例如裸露的金屬銅或其所披覆的保護層緻密/氣密性不佳。
.可誘發爬行機理產生的表面環境,例如環境中含有氯氣、臭氧或清潔度較差的表面以及懸浮微粒的汙染都將觸發爬行機理的發生(表1)。
MFG/FoS硫化腐蝕試驗差異之處
通常MFG腐蝕試驗可控制的試驗參數包括溫度、濕度、腐蝕性氣體的種類、濃度與流速等。除此之外,MFG為一流動式腐蝕反應器,其腐蝕性氣體的來源來自於腐蝕氣體鋼瓶並搭配一定的氣體流速1,000或1,500liter/hour不斷地置換反應器內部的腐蝕性氣體。由於其可控制的試驗參數眾多、架設複雜且能持續地提供新鮮的腐蝕性氣體的特性,因此對於實際終端的環境條件具備較高的模擬能力與試驗的應用性,但卻也同時造成試驗成本較高的問題。
而一般FoS腐蝕試驗可控制的試驗參數只包含溫度與濕度,另考量於FoS為一批式腐蝕反應器,其腐蝕性氣體的來源來自於密閉容器中的硫磺粉受溫度提高所釋放出的硫磺蒸氣(S8)。由於其可控制的試驗參數較少、架設簡易且為單一硫化物腐蝕性氣體的特性,因此使其具備較低的試驗成本,但卻也同時造成試驗應用性較低的問題。
除此之外,因受限於密閉式的實驗設計,其試驗的腐蝕反應速率容易受到測試樣品在試驗過程中所產生揮發性有機化合物(Volatile Organic Compounds, VOC)的影響而降低。若試驗的溫度越高或在測試樣品數量越多的情況下,腐蝕反應速率受到VOC的影響則會越顯著。因此一般傳統的FoS腐蝕試驗大多都被採用來針對不同的物料清單(Bill...
機器視覺系統層層把關 藥瓶檢測效率一日千里
許多製藥廠商採用自動化方式進行前期生產、後段包裝,以及包裝之後的檢測過程,以減少因人工檢驗而導致效率低落和巨額的人事與管理成本。為了達到品質要求,許多廠商結合機器視覺系統及自動化機台(生產線機器),透過圖形分析、顏色辨識、條碼辨識以及字元檢測,以實現最高品質及最高效益的生產線流程。
近年來,各地製藥廠商紛紛轉型,部署全自動化生產線。其中,液態藥瓶生產製造及檢測過程歷經層層關卡,借助機器視覺系統、總體檢測效率及檢測準確性都較以往的人力大幅提高。針對此需求,有廠商推出USB 3.1彩色工業相機,能夠在高速運轉的生產線上捕捉到每個經過藥瓶的圖像,然後經過後端圖像軟體分析,進行良品與不良品的篩選,同時也可以記錄圖像資料,以便後序可以快速查詢、追溯和檢索品項。
圖像記錄檢測瓶裝藥品 相對位置標準更準確
液態藥品裝瓶後,通常須要經過個檢測環節,來判斷藥液裝瓶是否夠量、瓶口是否有破損、瓶蓋是否壓裝到位,以確保藥量正確、藥瓶封裝完好,以及瓶內的真空度正常。因此在對瓶裝藥液進行檢測前,製藥商通常會先利用圖像感測器紀錄正常瓶口的特徵和藥液的標準位置。當每瓶藥液經過檢測鏡頭前時,相機會捕捉當前被檢測物體的特徵,然後將捕獲的圖像與先前拍攝的樣本圖像進行比對。檢測標準採用相對位置標準,因此不會因瓶子在傳送帶上受到微弱跳動的影響做出錯誤判斷。
USB 3.1工業相機監控/分析/優化製藥流程
USB工業相機現今已被廣泛安裝在機器輸送帶上,代替人眼進行判斷和測量,因為它能夠在高速移動過程中捕獲清晰的圖像,並能快速且準確地進行圖像資料的傳輸和處理。USB 3.1工業相機能在較為惡劣的環境下長時間連續運行,並能保證穩定、可靠的性能和準確的拍攝效率,較過去USB 2.0傳輸更為快速。將USB 3.1工業相機用在製藥過程中時,可以用來監控、分析和優化製藥流程,確保藥品品質,提高生產率。
空藥瓶在運送過程難免會碰撞缺損,為避免瓶內有碎玻璃混進以及之後瓶蓋無法密合,在填裝藥液之前可運用工業相機進行垂直瓶口檢測(圖1),第一步篩選過濾有缺損或破碎瓶口的空藥瓶。為清楚呈現所拍攝之瓶口,業者所推出的USB 3.1相機搭載感光元件,提供高畫素及低噪點圖像品質,可捕捉快速透過產線的每一個藥瓶,拍攝後的圖像則可即時傳送至小電腦,透過電腦自動比對正常樣本圖像,之後小電腦便可下指令至自動化機器,將不符合標準的藥瓶送入廢品區淘汰。
圖1 使用垂直相機進行瓶口瑕疵檢測。
當藥瓶經過自動化機器填充完液體藥品後,便直接封口。一般醫療用藥液會有內塞先封住瓶口,接著再使用機器將外蓋(鋁蓋)內壓密合,以確保瓶內藥液不受污染或變質。先透過彩色工業相機垂直拍攝瓶蓋顏色,獲得的圖像傳輸至電腦,透過事先儲存設定的色彩,進行顏色比對,來辨識所經過的藥瓶是否正確。
接著,在下一個關卡架設側拍相機,取得的圖像經過量測軟體或程式來辨別液位高度,同時上下比對瓶蓋位置,確認是否每個瓶蓋都已密封。在此兩關卡上,不合格的藥瓶則如瓶口檢測後的結果,由小電腦自動下指令至自動化機器,送至廢品區。
而除了藥瓶檢測,許多製藥商會在藥瓶瓶身或瓶蓋上貼上或嵌入標籤號碼、日期或相關的藥品名稱。使用具高效穩健條碼辨識演算法的相機,能迅速地偵測並辨識任何方位的一維與二維條碼;也可設定只掃描特定的條碼圖形及方位;或設定感興趣區域(ROI)加速偵測及解碼效率。製藥廠商只須利用工業相機讀取標籤上或噴塗在包裝上的一維或二維條碼,就可以即時獲得藥品的詳細成分、生產日期等資訊。
機器視覺結合自動化生產提高製藥品質
上述條列機器視覺在藥瓶檢測的部分應用,然而機器視覺用以提高製藥工作的效率和準確度仍需仰賴與自動化製藥生產系統緊密結合,才能達到提高品質,提高效率和降低成本的目標。也由於藥瓶檢測常與自動化機配合使用,端看不同藥廠的需求以及不同廠家自動化機所提供不同的功能,對於機器視覺相關的應用也有不一樣的變化。然而,對於要求高品質和高可靠性的製藥廠商而言,USB 3.1工業相機的設計,在製藥過程中滿足了高速、高解析度、高畫質影像、完整色彩重現及高穩定性等需求。
(本文作者任職於兆鎂新)
功能/網路安全齊頭並進 醫療器材風險管理有效率
然而,每項多樣化產品都會對接受治療的患者有著不同程度的風險影響,這促使美國食品藥品監督管理局(FDA)和歐盟(EU)醫療器材指令(MDD)CE標籤工作組,要求器材製造商通過各種產品設計來管理此風險。
醫療器材設計考量
工程團隊在設計醫療器材時,不僅應考慮開發出能在臨床應用中發揮效用的器材,還需保護患者的安全(如符合硬體電氣設計的IEC-60601-1、1-4與符合軟體生命週期流程的IEC-62304)、確保能順暢地在系統中傳遞資料(如符合HIPAA)以及包含日誌記錄和產品更新方法的器材生命週期(如符合FDA CFR 21)。
這些對安全與預期運作的考量並非僅針對醫療器材產業,它們也適用於人們與用於提高自動化水準的機器設備協作的其他產業。在工業領域,機器人已不再只是操作人員的奴僕,而是正日漸成為真正的獨立合作方,不過它們的宗旨還是以人類的安全為首。例如在汽車領域,隨著車輛自動化水準不斷提高,人類駕駛也迅速對日益增強的安全功能產生依賴。
在工業自動化領域,能直接影響系統安全的機器設備設計屬於「功能安全」範疇。「功能安全」旨用於滿足這些要求的一套特定標準和設計方法。雖然功能安全設計方法規定了預期運作路徑和失效路徑,但我們必須意識到有人可能會蓄意修改系統的預期運作,這使網路安全威脅不斷提升。
因此,當今要全面解決開發生產醫療器材的風險管理問題,功能安全和網路安全都必須被視為患者總體安全內在組成的一部分。系統設計可以有網路安全而沒有功能安全,但不可以只有功能安全卻不考慮網路安全。本文分兩個主題進行討論,即功能安全和網路安全:
1.功能安全概述和可用於達到不同安全完整性等級(SIL)的常見設計方法。
2.實施安全等級(SL)可能產生之威脅的網路安全評估概述。
功能安全旨在降低風險
功能安全旨在運用相關標準中規定的實踐(Practice)與規則監督設備的主要功能,減輕對人和/或環境危害風險的系統。一般來說,功能安全會持續監控受控設備(EUC),當機器設備運作發生異常(例如機器故障)或外力導致的危險狀態時就會啟動。設備製造商在設計時會進行危險與風險評估,確認需要採取何種風險緩解措施。
功能安全系統可用簡單的設計,譬如加裝在電源上的限位開關(Limit Switch),也可用複雜的設計,像是在製造場域內監控是否有人穿越黃色安全線的光達(LiDAR)系統(例如在組裝產線上太靠近移動中的卡車底盤)。足球是可以用來形容功能安全的一個貼切比喻,包括美式和英式足球在內。球員是受控設備(EUC),裁判是安全相關系統。裁判掌握比賽規則並控制比賽,根據各種發生的情況停止和再次開始比賽,更重要的是對犯規的賽隊或球員進行處罰。
醫療器材設計功能安全不可缺
在美國,聯邦法規要求醫療器材製造商在有預備上市的醫療器材產品時必需通知FDA。根據「美國聯邦食品、藥品和化妝品法(FFDCA)」的規定,這被稱為「售前通知」或「510(K)通知」。根據該條款,FDA可依據具體應用,援引先前已在市場上合法銷售的器材,以實質等同(Substantial Equivalence)為由放行新器材的銷售。
然而,實質等同性在功能安全方面有些問題,因為設計本身及用於建構實質等同功能的器材物理屬性均有其獨特性。對於那些不屬於FDA控制範圍的器材和機器設備,當地政府要求製造商需從UL(前身為保險商實驗室)等獨立機構取得認證以符合安全標準。這種獨立性能讓標準在技術和市場力量的作用下發展演進,將利益衝突降到最低。
功能安全系統的目的在於降低風險。在機器設備功能異常時,功能安全系統有責任讓機器設備進入「安全狀態」。這意味著安全系統的可用性(系統在未來仍可運作的機率)是降低風險的重要因素。若功能安全系統在需要時發生故障是嚴重的事情,為了讓功能安全系統能在一天24小時可全天候的使用,功能安全系統的設計測試受到國際標準控制,並由獨立認證機構驗證。
圖1呈現的是受控設備(EUC,深灰色)和功能安全系統(淺灰色)之間的關係。功能安全系統隨時觀察EUC的運行。在圖1中,安全狀態指斷開致動器的電源。如果EUC的動作超出可能導致危險狀況的邊界,功能安全系統就會切斷致動器的電力。安全功能可以被視為一個獨立安全網:如果安全功能失效,EUC還是可以繼續工作,但它是在沒有安全網的情況下運作。
圖1 安全功能(淺灰色)與受控設備(深灰色)之間的關係
安全功能三個模組
安全功能本身通常由三個模組構成(圖2),其中包含:感測器驅動邏輯控制器的輸入,然後由邏輯控制器驅動致動器。由這三個模組共同構成安全功能,有時也稱為「安全迴路」。此外,這三個模組也用於確定安全完整性等級(SIL)或安全迴路品質。
圖2 安全功能的三個模組
失效/降低風險與安全完整性等級
「失效(Failure)」在產業中被定義為終止正確的服務,其中「故障」(Fault)為導致功能失效的異常狀態,「誤差(Error)」指預期/正確值與實際值之間的落差。失效可分為兩大類型,安全失效不影響安全迴路的運作,也不會將設備過渡到「安全狀態」。危險失效則會影響「安全迴路」運作,也就是故障造成的誤差會引發失效。
IEC 61508
根據電氣/電子/可編程電子系統功能安全標準(IEC 61508),共有從SIL1到SIL4的四種安全完整性等級,其為依據對監控受控設備的功能安全系統或安全迴路的風險降低能力而客觀定義的標準,細節請詳見表1。
有兩個因素決定安全完整性等級。首先是系統能力,它是一個品質指標,透過質化測量設計中由人為失誤所引發的潛在缺陷之數量。該指標是由提供證據證明標準中規定的流程得到遵循而決定。第二個因素是採用診斷指標減少隨機硬體故障,系統的安全完整性等級由兩個指標間的最低者決定。
醫療器材須定義安全狀態
設備製造商有責任根據設備的運作方式及製造商對危險和風險的評估,定義什麼是安全狀態。在某些情況下,安全狀態可以切斷馬達主電源或是機器設備主電源,讓內置的被動措施接手消除系統中的能量。具體情況取決於危險的類型。
像MRI這類的醫療器材,由於切斷電源後患者能離開該設備,因此這可以算是一種安全狀態。但對於重症加護病房的病患監護儀等其他類型的醫療器材,將切斷器材電源作為安全狀態可能會提升患者的風險。對於人工心肺機或生命支援呼吸器等重症加護設備,這個問題就更加嚴重,若將斷電當作安全狀態很可能造成患者身故或重傷。
有兩個條件可能導致系統進入安全狀態。第一個條件是安全功能檢測到受控設備或某種外部活動導致危險狀況;第二個條件是安全功能本身發現安全迴路中的系統故障。在EUC發生失效,造成安全迴路驅動EUC進入安全狀態的情況下,EUC設計本身需具備冗餘,才能被繼續使用。對於器材無法過渡到安全狀態且安全迴路失效的情況,安全迴路本身需要使用冗餘架構。這樣可提升安全迴路的可用性,進而提升受其保護的EUC的可用性。
遵循上級功能安全標準確保可用性
隨著時間推移,所有系統失效的機率都十分的高,而這一點對安全迴路而言更是重要的考量點。系統失效的兩個主要原因是隨機硬體故障和系統性失效。因為硬體故障的發生是隨機的,所以設計用於檢測系統失效的功能安全系統必須具有高可用性。
為了協助這些系統的設計,上級功能安全標準「IEC 61508:電氣/電子/可編程設計電子安全相關系統」羅列出設計這些系統的建議架構清單。該標準介紹了檢測安全迴路運作失效的措施,並針對依據安全功能所需之故障運作狀態的情況添加冗餘。
系統性失效可以採用標準中所提出的,經完善測試且先進的措施,透過設計流程得以減輕;該流程必須獨立管理,以避免受到系統製造商內部利益衝突的影響。現今有大量此類流程被投入使用,圖3所示的是IEC 61508標準提出的V模型,而圖4所示的是ISO 26262中業界一流的軟體設計流程。
圖3 摘自IEC 61508:2010第3部分的軟體設計流程
圖4 摘自ISO 26262:2018第6部分的設計流程
每個流程中,左邊為設計程序,右邊為驗證程序。V模型左側顯示的是專案定義與設計,右側顯示的是使用V模型底部的單元編碼進行的專案測試與整合。在測試基礎完整前不得開始實際的單元編碼。
該流程的第一步是全面理解最終狀態的面貌。這個層面的設計會產生需求列表。在這些需求完成審核且被接受後,就會產生架構規格,再根據架構規格創建功能模組(工作分工)和支援需求的介面。在完成對架構的定義、細化並經同行審核後,就會產生為每個模組及其介面的測試需求。在同行完成測試需求的審核和驗證後,就會開始進行測試台編碼。
此時,設計團隊可能已經用掉時程表上一半的時間,但卻連一行應用代碼都還沒有開始編寫。剩下的時程是為測試台進行編碼。測試台完成後基本上就已成功在望,因為設計團隊現在很有把握其編寫的功能代碼在設計上是正確的。最後就是單元編碼、驗證和確認,在這個流程中產生缺陷的可能性已經很低,但仍取決於當初設定的需求是否夠全面。擁有越完善的需求設定和與需求對應的測試台,發生缺陷的機率就越低。
第二個考量是隨機硬體故障。檢測和在某些情況下糾正隨機硬體故障的措施取決於電子裝置的故障方式。就位元化積體電路而言,故障原因包括製造差錯、外部粒子撞擊或元件的金屬遷移耗損。隨機硬體故障可能是永久性或暫時性的,根據故障的性質,它們可能對機器設備行為造成影響,可能導致危險失效,也可能不會對機器設備的運作造成影響。後者這種情況被視為「安全失效」;而被稱為「診斷功能」的措施是被設計用於檢測這些故障並在某些情況下糾正它們。最常用的診斷功能有:
.湧泉碼:
在現今所有的手機通訊系統中用於重組和糾正手機在基地台和設備間發生隨機訊號干擾時遇到的傳輸故障。
.記憶體保護:
在現今運作的每台運算伺服器中用糾錯代碼(ECC)檢測和糾正受損記憶體資料。
.冗餘:
安排一套與主要功能平行運作的額外資源。
在這三者中,冗餘是最完善的可用診斷功能,但也是成本最高的。參考圖5和圖6,最常見的冗餘類型包括「二取一」(1oo2)和「三取二」(2oo3)兩種術語。
圖5 「二取一」(1oo2)安全架構
圖6 「三取二」(2oo3)安全架構
全盤了解安全架構實現高穩定性方案
圖7所示的例子之中,1oo2安全架構用於診斷功能強化,形成能確定兩個通道中哪一個有故障情況的「二取一」診斷架構(1oo2D),而此一架構能用於代替2oo3架構。
圖7 使用交叉通道診斷(1oo2D)的1oo2安全架構示例
在這個例子中有兩個安全通道:深灰色的安全通道A,淺灰色的安全通道B。每個通道都有自己的電源和時脈。而賽靈思的Zynq UltraScale+提供可配置在獨立場域中的功耗監測器和系統監控(Watchdog)計時器,用於監測設備中的其他場域。這些監測器是標準認證中的必備條件。最後,每個通道擁有大於98%的診斷機率,且每個通道使用不同的CPU和設計架構以增加多樣性。這種多樣化的環境運用不同的架構強化系統功能。
從整體架構來看,通過在各個通道間比較結果,能以大於99%的診斷機率檢測出單一故障(例如一個電源、一個時脈生成器或記憶體失效等)。一旦檢測到故障,依據通道狀態得到的診斷結果將通知正常通道和Voter發生故障,Voter隨即遵循正常運作通道所得的結果。
IEC 60601
60601標準用於規範可能導致危害的潛在有害排放,但沒有充分說明安全迴路品質(SIL)的系統性方法,以及如何將導致危害的設備置於安全狀態。風險管理流程留給醫療OEM廠商自行處理並使用ISO14971標準的文件進行調整。雖然這是個好的開始,但問題仍然存在,也就是用於減輕風險的安全迴路應具備怎樣的品質。
IEC 61508標準提出的準則和流程可用於任何電氣/電子或可編程設計的電子系統,毋須考慮安全迴路的最終應用。這意味著通過使用用於滿足特定標準的SIL水準的安全迴路設計,就可以被認為針對特定風險已達到風險降低的要求。
ISO 26262
ISO26262規格採取截然不同的做法,要求將機器設備本身設計為天生具備安全性。例如,當今較為新型的汽車採用了電子緊急剎車。這種剎車裝置取代了老式的機械剎車系統,完全獨立於用於在正常駕駛條件下讓汽車停止的主剎車裝置。這種新型的電子緊急剎車系統已經被整合進車內的安全功能,當汽車在危險速度下行駛時,不允許系統發揮作用。所以當速度高於5mph/8kph(安全作用極限),系統會發出警告並且不發揮作用。其原理如下:
1.主剎車系統擁有冗餘液壓線路。
2.驅動液壓系統的致動器故障率極低。
鑒於歷史上總故障率很低,所以能夠移除完整的冗餘緊急剎車裝置,以內建安全功能的電子手剎車取代。這種根據預期功能評估危害的理念被稱為「安全目標」。隨後使用驅動此架構的各種診斷措施和失效模式(失效安全與失效運作)達到每一個安全目標。主要功能透過設計提供內在安全性。「手剎車」的安全目標是:
1.系統應阻止不利的剎車。
2.系統應在完全喪失主動力後持續運作。
3.系統應阻止導致失控的剎車。
設計隨後通盤考慮這些安全目標,採用各種方法和措施確保達成這些目標。為此,半導體業者如賽靈思,在設計旗下產品Zynq UltraScale+ MPSoC時就考慮到功能安全和安全需求,從而幫助設備開發者打造高穩定性的解決方案,用於實施安全高效的醫療設備。此外,安全性晶片特性可透過工具流、IP和軟體解決方案加強,並成為工業和醫療物聯網解決方案堆疊的一部分。就功能安全性來說,Zynq UltraScale+ MPSoC提供以下功能:
.三個獨立的運算區域,分別採用不同的時脈和電源以減低共因故障。
.多個溫度感測器用於檢測工作限制條件。
.On-chip診斷(ECC)可檢測使用者和配置RAM中的隨機硬體故障。
.即時運算區域的系統功能。
.安全認證工具與方法。
.安全認證Zynq UltraScale+ MPSoC晶片和軟體。
賽靈思的功能安全技術針對功能安全設計的兩大關鍵領域設計。第一大關鍵領域為系統功能,透過賽靈思認證工具鏈實現,並評估異質化產品。第二大關鍵領域為隨機硬體故障容錯,透過獨特的診斷組合實現,包括運算區域內選擇性硬體冗餘、SRAM診斷功能和異質化運算資源中的冗餘等。除On-chip診斷外,賽靈思還整合針對特定設計的獨特製造技術,可提高設備級單一故障事件(SEU)免疫性。
本文將功能安全和網路安全問題與設備製造商的產品風險評估管理連結起來。工業領域應對產品安全相關風險的一些最佳實踐(如IEC 61508)及應對網路安全防護要求的最佳實踐(如IEC 62443)在醫療設備設計時加以運用。本文概述醫療設備設計時可採用的功能安全設計實踐和賽靈思功能,以提高安全性並更佳評估風險,並一次性通過監管審查以加快產品上市時程,進而減少產品召回的風險。賽靈思認為監管機構和設計工程師能透過結構化的功能安全設計時程,對整體產品設計、整體產品成本乃至病患的安全產生積極影響。安全和保障密不可分,因為沒有適當的網路安全防護措施,系統安全就無法滿足預期的工作要求。網路安全問題既涉及數位控制產品的操作完整性,也涉及供應鏈防護,同時適用於不同的終端產業。
(本文由賽靈思提供)
優化工作量/資料輸送量 雙核心MCU提高電源效率
功耗/低延遲需求上揚 單核心設計漸難負荷
原則上,單個高速CPU核心可以透過時間切片運行多個獨立執行緒,以處理低延遲即時控制任務以及聯網和系統管理任務。不過,對於採用特定製程技術已達到如此高效能的核心晶片而言,其在功耗和複雜性方面的表現可能不甚理想。
對於運行在單個核心上的任何即時應用而言,還存在一個問題,即如何使執行緒和中斷處理常式輕鬆地按時完成任務。對於任何資源分享的實現,需要關注的一點是,不相關流程或中斷處理常式的運行會阻塞特定執行緒的運行時間。為了確保執行緒在各種沒有任何依賴關係的條件下按時完成任務,用於計算所需餘量值的保守演算法將要求留出相當大的一部分未分配的處理週期。
此外,還須要考慮頻繁進行任務切換的開銷及其對處理輸送量的影響。當單個核心處理大量中斷事件時,中斷處理及相關任務切換的開銷可能很大。一種選擇是透過更高的時脈速度構建更多的效能餘量。實際上,將應用分散到多個處理器核心可能更有意義。對於不主要依賴於單執行緒輸送量的任何多工應用,使用並行方式通常會提高能源效率、增加確定性並簡化開發過程。
有效進行多工作負載 雙核心設計備受青睞
雙核方案可以更有效地共用多工系統的工作負載。採用雙核方案時,還可以使用更低的核心時脈頻率,進而提高快閃記憶體的匹配度;此外,還有助於減少或消除處理器必須等待指令或資料從取指請求返回時的停頓週期(等候狀態)數(表1)。
在某些應用中,處理相關資料饋送任務的密切關聯特性仍然支援單一流水線。但是,在高效能嵌入式應用中執行不同的功能時,使用多個核心更有意義,因為各種功能的關聯程度相對鬆散。
例如,在採用韌體實現閉環控制的電源中,效能主要取決於將類比採樣轉換為數位所需的時間,隨後根據該時間資料計算新的工作週期,接著更新PWM。使用多核控制器時,透過在沒有其他優先順序任務執行的核心上運行延時關鍵型功能,可以確保該功能不受其他系統活動的阻礙。
與時間關鍵型控制回路計算並行工作時,另一個CPU核心可以執行其他任務,如PMBus通訊和系統監視功能。類似地,在馬達控制應用中,將控制回路處理和CAN介面協定棧拆分給不同的核心,確保馬達換相精確且具有確定性。
在專案開發時間方面,拆分處理還有其他優勢。但是,要利用這一優勢,兩個核心需要保持同質性,這一點很重要。一種傳統的多工處理方式是根據處理器類型劃分工作負載。針對乘法累加選項優化的流水線上將專門運行訊號處理程式,但幾乎沒有能力有效地運行控制程式碼,而通用處理器則負責處理分支密集型程式。
實際上,在許多即時應用中,這種架構很難處理。訊號處理操作通常取決於可能快速變化的外部條件。在不同核心間同步狀態所需的處理器間通訊實現起來可能很複雜,因為與用於將命令和狀態更新轉發到網路介面的消息相比,這種方案對時間同步的要求更為嚴格。
統一數位訊號控制器架構展妙用
統一的數位訊號控制器架構(如Microchip的dsPIC33)將兩種類型的執行特性融合到單一架構中,進而解決了上述同步問題。此類流水線不但能高速地進行乘法累加和矩陣運算,還具有快速分支能力和高中斷回應效能,因此參數和演算法可以動態地適應不斷變化的條件。
這最終簡化了複雜訊號處理演算法的軟體方案。然而,設計階段上的壓力則意味著,無論客戶選擇哪種架構,都會面臨程式碼整合的挑戰。在許多應用中,通訊和控制功能常常分別分配給不同領域專家的開發團隊。
整合來自兩個或更多團隊的程式碼時,將面臨著一個關鍵問題,即確定調度和任務優先順序如何在各團隊之間運作。看似微不足道的決策(例如各個任務的優先順序)也可能對應用的整體即時行為產生重大影響。決策不佳意味著重要任務將長時間得不到處理器的處理,而無法表現良好效能。透過將任務集分布在兩個處理器上,由最瞭解相關應用程式部分所使用執行緒的相對優先順序的工程師負責設置這些優先順序。
透過拆分處理,可更輕鬆地管理和分配資料記憶體,並確保在專案期間創建和調試的Makefile和連結描述檔設置在最終套裝軟體中仍然生效。這有助於減少軟體整合團隊的工作量,並縮短產品上市時間。
儘管已透過拆分處理優化了開發工作量和處理輸送量,MCU供應商(如Microchip)仍在不斷努力改進架構,致力於幫助用戶提高效能。以雙核dsPIC33CH為例,不僅提高中斷回應能力,且核心中還實現了額外的指令,以進一步提高DSP效能。
作為數位訊號控制器(DSC),dsPIC33CH包含許多先進周邊,可降低系統成本並縮小電路板尺寸。這些周邊包括高速ADC、具有波形生成功能的DAC、類比比較器、類比可程式設計增益放大器和高解析度PWM發生器(解析度達250 ps)。
更智慧的周邊和周邊觸發訊號發生器等先進功能有助於減少電源或馬達控制應用中核心中斷的次數。例如,UART為LIN/J2602、IrDA、DMX和智慧卡協定擴展提供硬體支援,以降低軟體開銷。同樣,CAN-FD周邊支援位元流處理器和可程式設計自動重發功能,能夠獨立於CPU核心更加自主地運行。
Microchip的dsPIC33CH設計專為當今工程團隊的開發需求而優化,非常適合各種高效能和時間關鍵型實際嵌入式控制應用。此架構能夠充分滿足客戶的獨立設計、無縫整合需求。結果是,這種架構不但能夠提高效能,還有助於縮短產品上市時間、減小系統尺寸並降低成本(圖1)。
圖1 統一的數位訊號控制器架構有助於縮短產品上市時間、減小系統尺寸並降低成本。
(本文作者任職於Microchip)
釐清翹曲程度 IC SMT早夭異常迎刃而解
先進製程零件材料堆疊複雜為翹曲主因
為什麼翹曲導致後續可靠度問題,近期發生頻率這麼高呢?主要原因來自於越來越多廠商,在開發先進製程的晶片;而先進製程晶片,是由非常多不同材質、不同功能的晶片堆疊起來。例如MCM多晶片模組、系統級封裝與Fan-in/Fan-out等,這樣的元件使用的材料相當複雜且多元,堆疊在一起時,因材質本身熱膨脹係數不同(CTE)就會產生翹曲(圖1)。
圖1 先進製程晶片元件或多或少都會有翹曲現象,變形量符合IPC規範控制在一定程度內,都不會影響後續元件上板品質。
資料來源:左圖為iST;右圖為Akrometrix
除了晶片元件本身會發生翹曲外,晶片透過表面黏著技術(SMT)結合到電路板時,因晶片與電路板CTE不同,翹曲的狀況就會加劇。而當翹曲超過一定的幅度,就會造成SMT的焊接品質不良,也影響後續的可靠度測試結果。也因此,如何妥善安排這些溫度特性不同的材料依序堆疊,在加熱與散熱時不會互相影響,是相當嚴苛的技術挑戰。
在5~10年前,翹曲幅度控制在6~8mil以內,都還不至於影響後續SMT等製程;然而這幾年先進製程的材料種類複雜且反覆堆疊,受到溫度影響後的變形量已比5~10年前的樣品來的嚴重。根據宜特板階可靠度實驗室發現,隨著未來接腳數越來越多,晶片上板時,使錫膏(Solder Paste)與錫球可以接合順利所使用的治具鋼板(Stencil),厚度就會越來越薄(圖2),繼續維持在6~8mil的翹曲幅度,是否能夠像早期不至於影響SMT製程品質,令人堪憂。
圖2 左圖為傳統PCB,鋼板因接腳數較少,錫球用的不多,相對鋼板不需要太薄;右圖表示隨著先進製程的元件接腳數變多,錫球需要較多,鋼板就需要較薄。
資料來源:iST
PCB翹曲過大易導致空焊與短路
當然,也不能將所有的問題放在零件身上,因為PCB也會有翹曲的狀況。原先以為PCB厚度只要超過1.6mm,PCB本身發生翹曲的機率會較小,但實則不然。宜特板階可靠度實驗室曾經有個經典案例,IC上板至PCB時,以為只是IC零件有翹曲問題(圖3),但做了一連串的SMT製程參數調整之後,依舊發現空焊與短路問題,最終發現原因,不只是IC有翹曲,PCB也有翹曲,且翹曲變形量過大造成SMT異常。
圖3 左圖為哭臉變形元件使用哭臉鋼板;右圖為笑臉變形元件使用笑臉鋼板
資料來源:iST
除此之外,空焊短路還不是最嚴重的問題。更嚴重的是翹曲後的焊點,將會呈現拉伸與擠壓的形狀,完美的焊點應該是接近「球型」,而翹曲將導致焊點呈現「瘦高」或「矮胖」形狀,這些「非球型」的焊點,容易產生應力集中而斷裂,使得後續在可靠度驗證中,出現早夭現象的機率提高。
透過SMT解決翹曲方式,一是透過修改鋼板治具開孔大小,針對間距較大的地方給予較多的錫膏;二是透過鋼板治具抑制零件的變形。
修改SMT鋼板治具開孔大小治標不治本
然而這兩種解法必須多次驗證才能找出SMT最佳條件,若無法有效解決翹曲問題,可能得退回設計階段找尋其他材料來取代,曠日廢時。因此,若能在SMT前,取得晶片與PCB翹曲相關資訊。將可事半功倍。宜特板階可靠度實驗室使用相關量測翹曲的設備,可以針對元件與PCB來模擬翹曲的程度,再去調整SMT的參數設定,確保SMT過程中有良好的焊接品質;如此可避免因不良焊接品質導致影響可靠度驗證以及不必要的成本開銷。
翹曲量測的原理,是應用樣品上的參考光柵和它的影子之間的幾何干擾產生摩爾雲紋分布圖,進而計算出各圖元位置中的相對垂直位移,並可應用於模擬SMT回流焊溫度和操作環境條件、同時捕捉一個完整的歷史翹曲位移表現。而量測分析的速度非常快,約半小時就可得知元件在不同溫度的變形量,也能模擬溫度循環的環境,協助客戶與可靠度測試進行搭配,觀察產品在哪個溫度會達到最大的變形量, 並能在測試中思考如何改善與預防。
總結來說,在宜特板階可靠度實驗室觀察中,翹曲的問題勢必會持續存在,我們無法控制材料的特性,但如果透過篩選的方式,找出翹曲方向相同的零件與PCB,我們認為這不僅不會降低可靠度的壽命,也能協助IC設計業者找到完美翹曲比例,達到1+1>2的價值。
(本文作者為宜特科技零組件暨板階工程部經理)
大數據結合主題專業知識 半導體製程分析更快/穩/準
智慧製造會應用大數據分析來提升現有的分析能力以及如預測性分析的全新能力,然後再運用資料(也就是大數據)在數量、速度、多樣性、準確性(即資料品質)和價值(分析)上的重大發展。這些得到提升的新能力(表1)被視為是延伸先進製程控制(APC)系列的一部分。
半導體製造設備和製程分析的出現和發展,部分是因為三個關鍵產業挑戰而形成。這些挑戰已存在數十年,並非是智慧製造或大數據革命才有。
但是,在某種程度上,這些是半導體製造業獨有的挑戰,這些挑戰分別為:設備和製程複雜性、製程動態和背景豐富性,以及不良的資料品質(在精確性和可用性方面)。
這些挑戰導致半導體產業分析解決方案無法嚴格做到資料驅動。機台、製程和分析領域知識或主題專業知識(SME)也是大部分晶圓製造廠解決方案的關鍵組成部分。因此,半導體產業的製程分析目前和未來也將以此為考量來設計和運用。實際上,通常SME輸入機制在各方面都有正式的界定,從資料收集、資料處理、參數選擇、模型建構、模型和限值優化到解決方案實施和維護。
定義維度能力識別分析方法
過去十年中,分析方法呈現爆炸式成長,而且許多方法都是利用大數據機會開發而得。識別和歸類這些分析法的一個方法是定義分析的維度能力,以及指定或規劃與這些維度的相關分析能力。
圖1提供半導體製造中與分析相關的維度分類。就這些維度來看,可從能力在每個維度中的價值來定義應用或分析。例如,主成份分析(PCA)(一種通常在多元分析(MVA)、故障偵測(FD)和設備健全監控(EHM)中使用的方法)是無監控且回應式分析;MVA通常為靜態和無狀態分析,並且不包含SME。
圖1 分析維度能力,以及傳統半導體製造APC解決方案對這些維度的對應,唯象模型是表示製程知識的物理模型形式;這些都是使用統計數據進行調整或修改。
在分析應用程式方面,當今晶圓製造廠中的FD大部分均為無監控、回應式、單變數、靜態和基於統計學的分析,並且在FD模型開發中結合SME。透過使用這些維度和其他維度的定義分析法和分析應用程式,可以為識別能力差距、提升機會以及(從長遠來看)改善路線提供框架。
半導體製造APC應用程式近年來的發展體現了工廠控制方法從回應式到預測式(甚至是主動式)的轉變。這主要是依靠大數據的爆炸式成長,其中對於更大數量和更長久資料存檔的支援在某種程度上使得預測式解決方案能夠破譯多變數參數互動的複雜性、描述系統動態、拒絕干擾和濾除資料品質問題。
在許多情況下,為利用大數據解決方案提供的平行計算和即時處理資料,必須重寫這些解決方案中的演算法。同時,還可以開發更易處理大數據的新演算法。例如,早期的預測式解決方案依靠單核CPU和序列處理,而大數據可使用偏最小二乘法(PLS)和支援向量機(SVM)在伺服器集群上進行平行計算。同樣,為處理更多資料而重寫自組織對應(SOM)和產生拓撲對應(GTM)等無監控資料探索技術,能夠讓使用者快速進行深入探索。
同樣地,可以重寫隱馬爾可夫模型(HMM)和粒子群演算法等耗時的統計技術,大大提高計算效率。但是,過多的技術和大量的資料不一定會帶來更深入的了解和預測式能力。筆者認為沒有一種方法或多種方法組合是萬靈丹;相反地,應利用現有資料來自訂符合應用程式的方法,但是,我們認為SME將繼續引導解決方案的開發和維護。
AI/大數據分析迅速竄起
AI可用來描述感知環境並採取措施完成目標的任何裝置或分析法。現在,AI通常用於類比人腦功能的裝置或分析法概念(例如在自動駕駛汽車的應用中)。人工神經網路(ANN)這類分析的一個例子已經存在了數十年,且此類AI分析法在大數據發展中再度出現。例如,深度學習(一種與結構化ANN非常類似的技術)利用分層抽象實現品質更高、速度更快的大量資料分析。
深度學習可用於解決大數據分析中的一些較高維度問題,包括從二維度影像(如晶圓圖)中提取複雜的圖案。深度學習技術得益於資料量大增,並使用資料驅動型受監控技術尋找資料中的關係。這些技術的主要缺點是相對無法在模型開發和維護中合併SME。所開發的模型通常不明確可用,因此難以評估,同時半導體製造分析中涉及的背景複雜性和動態阻礙深度學習使用大量且持續的資料量。
近年來,研究工作的重點是結合SME和AI技術,該方法有望在未來應用於生產現場。另一種獲得極大關注的大數據分析能力是背景分析,該分析使用通常稱為「網路爬蟲」的解決方案。這些應用程式會挖掘背景中的資料,並尋找有關係的圖案或分析結果,例如接近故障的零件。然後,這些應用程式會以非同步方式通知如工廠控制系統的應用程式,以便能夠採取適當的措施。這種方法還會使診斷和預測更具有可重構性。
大數據分析日益進步提升製造良率
當邁向智慧製造時,顯而易見的一點是分析法將在實現良率的過程中繼續發揮更大的作用,同時可使產量最大化並降低成本。大數據的進步將推動這些分析法的發展,筆者認為,到目前為止所取得的進展已經提供一些重要發現,這些發現將有助這些分析法達到最大能力。
第一個重要發現是,半導體產業期待開發或加強的許多分析法解決方案都可以利用相同的模型開發(靜態資料)和模型執行/維護(動態資料)結構。例如,用於PdM的6步模型開發流程(如圖2a和2b中所總結)可用於虛擬量測,甚至預測良率。使用通用的方法不僅能夠節省推廣這些技術所需的時間和精力,還能夠讓製造廠商交叉利用分析法持續進步。
圖2a 使用MVA預測器及其部分的PdM方法,包括故障前時間範圍以及預測置信度或範圍的某種表示。
圖2b 利用離線模型建構和最佳化提供合併SME機制的PdM方法,可用於多種APC預測能力。
第二個重要發現是,智慧製造將使這些分析法的應用範圍延伸。例如,透過將診斷、控制和預測從晶圓製造廠內擴展到供應鏈中,可以更有效控制客戶需求並提高解決區域良率等問題的能力。第三個可能是最重要的發現為,SME將在半導體產業的分析法應用程式中繼續發揮重要的作用。應用程式將有所不同,但設備和製程專業知識仍然會是半導體製造分析解決方案的關鍵組成部分。
(本文作者皆任職於應用材料)












